據(jù)中國政府采購網(wǎng)12月25日披露的公告顯示，國產(chǎn)光刻機廠商上海微電子裝備（集團）股份有限公司（以下簡稱“上海微電子”）中標了一臺步進式掃描光刻機，成交金額約為1.1億元。

在目前的光刻機市場，ASML、佳能以及尼康是最大的三家供應(yīng)商，占據(jù)了全球99%的市場。其中ASML 在中高端光刻機市場更是一家獨大，獨占超過90%市場，且是全球唯一家擁有可以被用于7nm以下工藝制程的EUV光刻機的供應(yīng)商。近幾年來，隨著先進制程的持續(xù)推進，ASML憑借其獨家擁有的售價超1.5億美元的EUV光刻機，使得其在光刻機市場銷售份額持續(xù)提升。

相比之下，上海微電子由于起步晚，再加上國外的技術(shù)封鎖，使得其在技術(shù)上與國外存在著較大差距。

早在2002年，光刻機就被列入國家863重大科技攻關(guān)計劃，上海微電子裝備有限公司也由此成立。主要從事半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備以及高端智能裝備的設(shè)計制造銷售。其中光刻設(shè)備是公司的主營業(yè)務(wù)，廣泛應(yīng)用于集成電路產(chǎn)業(yè)鏈中晶圓制造、封裝測試，以及平板顯示、高亮度 LED 等領(lǐng)域。

截至2020年3月，上海微電子直接持有各類專利及專利申請超過3200項，同時通過建設(shè)并參與產(chǎn)業(yè)知識產(chǎn)權(quán)聯(lián)盟，進一步整合共享了大量聯(lián)盟成員知識產(chǎn)權(quán)資源，涉及光刻機、激光與檢測、特殊應(yīng)用類等各大產(chǎn)品技術(shù)領(lǐng)域，全面覆蓋了上海微電子產(chǎn)品的主要銷售地域。

官網(wǎng)產(chǎn)品資料顯示，上海微電子的光刻設(shè)備主要包括SSX600系列步進光刻機、SSB500系列步進光刻機、SSB300系列步進光刻機、SSB200小Mask系列曝光機、SSB200大Mask系列曝光機。

其中，SSX600系列步進掃描投影光刻機采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺掩模臺技術(shù)，可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求，可用于8寸產(chǎn)線或12寸產(chǎn)線。

SSB500系列步進投影光刻機主要應(yīng)用于集成電路先進封裝領(lǐng)域，包括Flip Chip、Fan-In、Fan-Out WLP/PLP和2.5D/3D等先進封裝形式，可滿足Bumping、RDL和TSV等制程的晶圓級/方板級光刻工藝需求。

SSB300系列步進投影光刻機主要應(yīng)用于2~6英寸基底先進光刻領(lǐng)域，可滿足Micro/Mini LED、新型化合物半導(dǎo)體器件和MEMS等芯片制程的光刻工藝需求。

此次中標公告公布中標的上海微電子的產(chǎn)品型號SSC800/10，雖然官網(wǎng)上未公布這款產(chǎn)品的資料，但經(jīng)芯智訊核實后發(fā)現(xiàn)，這只是一臺248nm光源的KrF光刻機，分辨率為110nm。??

編輯：芯智訊-浪客劍