近日，全球半導體產(chǎn)業(yè)的“心臟設備”供應商、光刻機霸主ASML正面臨市值大幅下滑的嚴峻局面。短短十個月，這家荷蘭科技巨頭的市值蒸發(fā)逾1300億美元（約合9365億人民幣），近乎從歷史高點腰斬。這一消息不僅震撼了整個半導體行業(yè)，也引發(fā)了全球?qū)Π雽w產(chǎn)業(yè)鏈未來發(fā)展的廣泛關注。

2024年10月，由于技術錯誤導致財報提前發(fā)布，加之銷售預期未達目標，ASML股價單日暴跌16%，市值蒸發(fā)約490億歐元（約530億美元）。自2024年7月的歷史高點4295億美元，至2025年5月已降至約2970億美元。這一跌幅不僅讓ASML的股東們心驚膽戰(zhàn)，也讓全球半導體產(chǎn)業(yè)感受到了前所未有的寒意。

回溯ASML的發(fā)展歷程，1984年其前身ASM Lithography在飛利浦辦公室旁的簡陋車間成立，并推出了首款光刻系統(tǒng)PAS 2000步進機，正式進軍半導體設備領域。歷經(jīng)波折，ASML憑借PAS 5500平臺扭虧為盈，并在1995年上市后不斷發(fā)展壯大。推出TWINSCAN系統(tǒng)、收購硅谷集團、推出EUV光刻技術等，ASML逐步成為全球光刻機領域的霸主。

盡管市值縮水，ASML在半導體產(chǎn)業(yè)鏈中仍至關重要。2024年年報顯示，其全年總銷售額達28.3億歐元，毛利率51.3%，全球員工44,027人，系統(tǒng)銷售583臺，EUV系統(tǒng)銷售收入超70億歐元。其核心業(yè)務為生產(chǎn)集成電路光刻系統(tǒng)，提供DUV、EUV、High-NA EUV三種主要類型光刻機，市場份額占比極高，在EUV領域更是全球唯一供應商?？蛻艉w臺積電、三星、英特爾等主要芯片制造商。

然而，如今的ASML卻面臨著前所未有的挑戰(zhàn)。美國主導的出口管制使其無法向中國出口最先進的光刻機，嚴重影響其潛在銷售。首席執(zhí)行官Christophe Fouquet預計，2025年在華業(yè)務占比將低于前兩年。市場需求也不穩(wěn)定，Logic領域銷售額下降，而Memory領域因AI相關需求增長銷售額上升。地緣政治風險加劇，美國聯(lián)合荷蘭、日本加強對華光刻機出口管制，雖計劃在中國建立維修中心，但核心技術輸出受限。

面對全球半導體產(chǎn)業(yè)的激烈競爭和ASML的挑戰(zhàn)，中國正加速光刻機技術的自主研發(fā)。目前，在中低端領域已取得顯著進展，90nm及以上制程實現(xiàn)自主可控。上海微電子600系列光刻機已量產(chǎn)90nm工藝，還計劃推出28nm浸沒式光刻機樣機。2024年工信部發(fā)布的目錄顯示，國產(chǎn)氟化氬光刻機可支持28nm芯片部分工藝。在先進封裝領域，上海微電子已交付首臺2.5D/3D封裝光刻機。

中國光刻機產(chǎn)業(yè)雖然已實現(xiàn)28nm量產(chǎn)、7nm工藝突破及3nm技術儲備，產(chǎn)業(yè)鏈關鍵環(huán)節(jié)（光源、光刻膠、工件臺）逐步自主化。然而，EUV核心部件仍依賴進口、EUV光刻機工程化量產(chǎn)還需時日、光學系統(tǒng)等高端領域仍需突破。隨著國際技術封鎖加劇，國產(chǎn)化率提升（當前3%）和全球市場競爭（ASML占82%份額1）仍是長期挑戰(zhàn)。

對于中國來說，加速光刻機技術的自主研發(fā)，不僅是為了應對國際技術封鎖和市場需求的變化，更是為了實現(xiàn)半導體產(chǎn)業(yè)的自主可控和高質(zhì)量發(fā)展。未來，中國將聚焦成熟工藝與新興領域，探索差異化發(fā)展路徑，力求在全球半導體產(chǎn)業(yè)中占據(jù)更有利的位置。讓我們共同期待更多中國企業(yè)在全球半導體產(chǎn)業(yè)中嶄露頭角！