為搭建深度高效的智庫(kù)思想交流平臺(tái)，錘煉全員產(chǎn)業(yè)研究能力，雨前顧問(wèn)日前舉辦了“雨前論壇暨產(chǎn)業(yè)研究專業(yè)能力競(jìng)賽”。聚焦數(shù)字經(jīng)濟(jì)、電子信息、醫(yī)藥能源、裝備制造四大領(lǐng)域，13位產(chǎn)業(yè)分析師深度剖析行業(yè)變革核心議題：從光刻機(jī)光學(xué)系統(tǒng)國(guó)產(chǎn)化破局、到工程塑料“以塑代鋼”技術(shù)躍遷、產(chǎn)業(yè)“內(nèi)卷”治理路徑，直擊區(qū)域發(fā)展痛點(diǎn)與創(chuàng)新前沿?，F(xiàn)將競(jìng)賽PPT開放共享，為產(chǎn)業(yè)決策者提供參考。

作者：醫(yī)藥能源研究部 解曉倩

來(lái)源：雨前顧問(wèn)

芯片制造的賽道上，光刻機(jī)是無(wú)可爭(zhēng)議的核心設(shè)備，而光學(xué)系統(tǒng)則是它的 “靈魂之眼”，直接決定著芯片制程的極限。

光刻機(jī)的三大核心系統(tǒng)包括光源、光學(xué)、雙工件臺(tái)，其中光學(xué)系統(tǒng)成本占比超 3 成（超 50 億美元），是實(shí)現(xiàn)高分辨率成像的關(guān)鍵。它分為照明系統(tǒng)（非成像，負(fù)責(zé)光束優(yōu)化）與投影系統(tǒng)（成像，聚焦掩膜版圖案），一個(gè) EUV 光刻機(jī)的光學(xué)系統(tǒng)總重可達(dá) 3.5 噸，精密程度可見(jiàn)一斑。

從產(chǎn)業(yè)鏈看，該領(lǐng)域呈現(xiàn) “技術(shù)密集 + 國(guó)際壟斷” 格局：上游依賴肖特、蔡司等企業(yè)的超低膨脹玻璃與加工設(shè)備；中游核心元器件如高反射率反射鏡被蔡司壟斷；下游應(yīng)用端，ASML 幾乎獨(dú)占 EUV、High-NA EUV 光刻機(jī)市場(chǎng)，上海微電子等國(guó)內(nèi)企業(yè)則聚焦 DUV 領(lǐng)域。

國(guó)內(nèi)外差距仍較顯著：在 EUV 反射鏡上，蔡司能做到 100 層鍍膜、反射率 65%，國(guó)內(nèi)僅能實(shí)現(xiàn) 55% 反射率；CaF2 晶體純度、精密車床精度等基礎(chǔ)環(huán)節(jié)，國(guó)內(nèi)也存在提純技術(shù)不足、關(guān)鍵部件依賴進(jìn)口等問(wèn)題。

不過(guò)，產(chǎn)業(yè)破局方向已明確：需從 “全鏈路突圍”，在光學(xué)材料、加工設(shè)備、設(shè)計(jì)軟件等領(lǐng)域同步升級(jí)，同時(shí)借鑒 ASML“控股 + 綁定” 模式，推動(dòng)整機(jī)與核心系統(tǒng)協(xié)同，才能逐步打破國(guó)際壟斷，搶占光刻技術(shù)制高點(diǎn)。

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