在美國拋出MATCH法案，從過去禁最頂尖的EUV光刻機(jī)，到現(xiàn)在直接擴(kuò)大到所有DUV浸沒式光刻機(jī)之際，中國自主光刻機(jī)走到哪一步了，是全世界都很好奇的一件事。

此前荷蘭科技媒體發(fā)了篇報道，標(biāo)題直接點名主旨——中國囤積的光刻機(jī)，哪怕接下來甚至完全不買，用個5到10年都完全不是問題。

也就是說，國內(nèi)企業(yè)提前預(yù)料到會出現(xiàn)制裁加碼的情況，所以在多年前就已經(jīng)超前向國外供應(yīng)商采購設(shè)備進(jìn)行囤貨，囤積的設(shè)備用5到6年是沒有問題的。

根據(jù)荷蘭ASML的官方財報顯示，在美國對中國企業(yè)實施制裁期間，中國大陸地區(qū)逐步成為了ASML全球最大的單一客戶市場。

2021年，中國大陸市場占ASML總銷售市場的16%，2022年的占比為14%。從2023年開始，這個比例開始上升。中國這幾年的“掃貨”有多猛？

到2023年底，ASML在中國的光刻機(jī)加上量測機(jī)臺，差不多有1400臺。2023到2024這兩年，中國企業(yè)買的光刻機(jī)，比之前五年加起來還多。2024年的時候，中國直接成了ASML全球第一大客戶，占了他們出貨量的41%。

2025年，中國買走的光刻機(jī)金額高達(dá)80.1億歐元，合計占到所有光刻機(jī)銷售的33%。

ASML首席財務(wù)官羅杰·達(dá)森在2025年財報中表示，中國企業(yè)此前采購的設(shè)備已陸續(xù)交付完成，預(yù)計2026年中國市場將會回歸平穩(wěn)階段，其銷售占比將會回落到20%左右。

ASML的擔(dān)憂很現(xiàn)實，2026年一季度，中國大陸市場的占比從去年第四季度的超三分之一降至19%，中國從ASML的進(jìn)口金額一個季度就銳減了約120億元。韓國在今年一季度超越中國，成為了當(dāng)前ASML全球最大市場。一年前還是＂最大金主＂，轉(zhuǎn)眼就被擠到第三。

從這個采購的趨勢來看，中國早已囤購了5~10年的光刻機(jī)。

最先進(jìn)的EUV沒得買，浸潤式DUV能造出啥好芯片？可以說，EUV 決定“天花板”，DUV 決定“地板”。EUV光刻機(jī)這條路走不通，我們也沒必要死磕。

正如荷蘭媒體稱，目前中國已經(jīng)囤積了足夠多的浸潤式光刻機(jī)，而這些浸潤式光刻機(jī)，在采用多重曝光之后，實際上能制造的芯片，或許早就在5nm甚至更先進(jìn)的工藝了。

雖說成本比EUV直接造高，良率也差點，但至少中高端芯片不會斷供，無法繼續(xù)采購進(jìn)口的成熟設(shè)備，但中國企業(yè)還可以使用之前采購的設(shè)備繼續(xù)制造芯片。售后體系被限制了，中國企業(yè)便建立自己的技術(shù)團(tuán)隊去維護(hù)設(shè)備，這就夠了。

所以中國一直在做準(zhǔn)備，在“囤積”光刻機(jī)，以應(yīng)對未來可能發(fā)生的風(fēng)險，為接下來可能的持久戰(zhàn)囤積糧草。

中國這幾年囤光刻機(jī)，根本不是恐慌搶購，而是一場精準(zhǔn)的戰(zhàn)略布局。手里有這些設(shè)備，未來5-10年就算徹底斷供，晶圓廠也能正常運轉(zhuǎn)，芯片也能正常生產(chǎn)。這段時間，正好能讓國產(chǎn)光刻機(jī)慢慢成熟，從28nm往更先進(jìn)的制程突破。

我們的國產(chǎn)設(shè)備也在加速應(yīng)用，國產(chǎn)設(shè)備的技術(shù)成熟度以及制造效率都需要有一個提升的過程，以前我們在光刻機(jī)領(lǐng)域，還處于剛剛起步的入門水平，隨著國產(chǎn)零部件一步步突破，上海微電子的28nm浸沒式光刻機(jī)已在工藝驗證階段。

2026年4月，浙江大學(xué)成功研發(fā)萬通道3D納米激光直寫光刻機(jī)，測量精度可達(dá)亞30納米。在納米壓印領(lǐng)域，國內(nèi)設(shè)備完成了10nm級自主交付。技術(shù)上“多點開花”的局面正在形成。

不僅如此，包括華卓精科以及科益虹源，都在光刻技術(shù)上取得關(guān)鍵突破，無論是磁懸浮雙工件臺還是193納米準(zhǔn)分子激光器，其核心零部件的技術(shù)都在逐步突破，在薄膜沉積、蝕刻、激光器這類輔助環(huán)節(jié)當(dāng)中，國產(chǎn)設(shè)備的覆蓋率逐漸提升起來?？梢哉f，再給中國幾年時間，將逐步實現(xiàn)全鏈條自主。

EUV方面，去年年底深圳也組裝出了原型機(jī)，跑通了初步試驗，某光學(xué)研究所正在自主研發(fā)EUV光源模擬器，11億元產(chǎn)線已試運行，雖然與ASML的商用標(biāo)準(zhǔn)尚有差距，但已足夠支撐原型機(jī)通過關(guān)鍵測試。另一家設(shè)備廠商則通過從國際市場引進(jìn)頂尖研發(fā)人員，搭建了完整的投影物鏡研究團(tuán)隊，雖然離量產(chǎn)還遠(yuǎn)，但已經(jīng)邁出了關(guān)鍵一步。

美國也看出了門道，剛推出MATCH法案，想從買、用、修三個環(huán)節(jié)徹底封堵，但封鎖越狠，反噬越厲害。

歐洲已經(jīng)有人提議，要是美國繼續(xù)加征關(guān)稅，就限制ASML向美國出口光刻機(jī)。更何況中國手里還有稀土這張牌，ASML的光刻機(jī)離不開稀土，而全球九成的稀土精煉能力都在咱們手里，誰也離不開誰。

囤購5~10年的光刻機(jī)，我們處于黎明前的黑暗，還需要往下扎根

從我們大量囤購5~10年的光刻機(jī)可以知道，我們當(dāng)前依然處于黎明前的黑暗，意味著我們?yōu)樽约褐辽兕A(yù)留了5年的時間，這也意味著5年內(nèi)，獨立的浸潤式DUV光刻機(jī)的量產(chǎn)并且普及，這個難度是有點大的。

畢竟，光刻機(jī)即便是不起眼的小零部件比如光源、鏡頭里頭，也充滿了美國的技術(shù)，包括德國蔡司的那套頂級鏡片。

在一些高精度零部件領(lǐng)域，國產(chǎn)機(jī)器跟國際頂尖水平還有十年二十年的差距，咱們現(xiàn)在靠自己勉強(qiáng)能搞定90納米的制程，距離世界最先進(jìn)的步伐還遠(yuǎn)。

就拿EUV光刻機(jī)來說，這是用激光打出極紫外光的高端東西，波長只有13.5納米，用在7納米以下制程，能夠?qū)崿F(xiàn)更精細(xì)的刻畫，比咱們現(xiàn)在193納米波長的干式光刻機(jī)要先進(jìn)得多。

人家已經(jīng)能做到7納米以下，咱們卻連14納米的完全自主化都還沒搞定。美國的制裁已經(jīng)加碼到了不要臉的程度，這樣會倒逼國產(chǎn)替代把自己逼到極限，預(yù)計在5到10年內(nèi)，國產(chǎn)光刻機(jī)會越來越成熟、越來越爭氣。并且，咱們在非美供應(yīng)鏈這條路上已經(jīng)做足了功課、下足了本錢。

ASML現(xiàn)任CEO克里斯托弗·富凱，在2025年12月接受美國彭博社專訪時指出，應(yīng)該適度向中國企業(yè)輸出技術(shù)以防止其自主研發(fā)形成競爭力，中國是一個大國，絕不會接受在技術(shù)方面被卡脖子的困境，必然會謀求進(jìn)步。

在西方科技圈內(nèi)部，過去一直是看低中國速度的，在很早的時候認(rèn)為中國就算是拿了圖紙也造不出來，后來他們說我們20年也追不上，后來改口說15年，現(xiàn)在變成了10年，中國可以造出EUV光刻機(jī)，那就是意味著他們正在重新評估中國芯片的「突圍速度」。

在科技競爭的維度里，10年就是一個完整的產(chǎn)業(yè)周期。第一個3年是從無到有的原理突破。第二個3年是核心零部件的攻堅戰(zhàn)，最后的4年，是整體設(shè)備的集成與迭代、優(yōu)化產(chǎn)品良率，是在工廠里不斷燒錢、最終打磨出高良率的芯片產(chǎn)品。

只不過，這個過程，注定是漫長而艱難的。目前整個行業(yè)還在咬緊牙關(guān)往前走，在瘋狂囤貨、優(yōu)化工藝，在解決芯片零部件自主與產(chǎn)業(yè)門類上不斷推進(jìn)，在產(chǎn)品創(chuàng)新和商業(yè)模式創(chuàng)新角度去推進(jìn)研發(fā)，一旦實現(xiàn)EUV光刻機(jī)的量產(chǎn)，整個世界的格局都會發(fā)生重大轉(zhuǎn)變。

只不過這一天到來之前，注定有一段沉默的時光。有句話說的好：“這段時光，是付出了很多努力，卻得不到結(jié)果的日子，我們把它叫做扎根?！边@不是一蹴而就的，而是需要長周期的研發(fā)與坐冷板凳，但全產(chǎn)業(yè)鏈的齊心合力，必將形成中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)突圍的強(qiáng)大力量，我們也最終會走到天亮的那一天。