前沿導讀

中國通信行業(yè)觀察者項立剛在個人賬號發(fā)帖表示，根據荷蘭光刻機公司ASML近幾年的銷售數(shù)據來看，這個公司很快會走向衰落。并且中國企業(yè)的入局，也在對全球芯片產業(yè)造成質變影響。中國企業(yè)已經具備了研發(fā)先進光刻機的能力，未來要解決的問題就是生產制造的爬坡，一旦中國光刻機實現(xiàn)大規(guī)模的生產制造，那么ASML面臨的就是銷售崩潰。

參考資料：

• https://user.guancha.cn/main/content?id=1602064

市場銷售

根據《界面新聞》在2026年1月底發(fā)布的報道指出，中國大陸市場在2025年第四季度成為了ASML全球最大的單一市場，占其凈系統(tǒng)銷售額的36%。ASML首席財務官羅杰·達森在訪談中透露，預計2026年中國大陸市場的營收占比將會下滑至20%左右，這與當下未交付訂單當中的中國市場所占比重保持一致。

參考資料：
ASML新增訂單量創(chuàng)歷史新高|界面新聞 · 科技

觀察者項立剛在個人文章中指出，光刻機本身就屬于小眾市場產業(yè)，全球范圍內涉及光刻機銷售的企業(yè)一只手能數(shù)過來。小眾市場的總體情況一直平穩(wěn)，而且大規(guī)模增長的空間并不大。如果出現(xiàn)大規(guī)模的市場增長，那么就說明整個產業(yè)的平穩(wěn)狀態(tài)已經失衡了。

近幾年基于ai產業(yè)的技術爆發(fā)，先進邏輯芯片和先進存儲芯片的產能出現(xiàn)缺口，這是推高ASML光刻機銷售的核心原因。不管是汽車產業(yè)的自動駕駛技術，還是機器人產業(yè)的人形自動化技術，根本離不開先進算力芯片和高帶寬存儲芯片的加持。

一旦芯片產能回歸平穩(wěn)階段，或者是產能供大于求，那么ASML的光刻機市場就會回歸到正常水平，對比高峰期的銷售情況會出現(xiàn)一定程度的下滑。

而中國芯片技術在全球半導體產業(yè)中處于人人關注的階段，任何一個技術突破都會在全球范圍內掀起極高的熱度。中國芯片的自主技術發(fā)展就相當于“薛定諤的貓”，只要參與人員不透露出來，那么外來人員就不可能知道中國自主技術到底發(fā)展成什么樣子，這種狀態(tài)也是美國對華制裁持續(xù)加碼的原因之一。

從2018年美國啟動對中興和華為的制裁一直到現(xiàn)在，中國企業(yè)在芯片產業(yè)上出現(xiàn)了兩個大事件。一個是2023年華為5G麒麟芯片的回歸，一個是2024年中國干式DUV光刻機的公布。

這兩件事同屬于“薛定諤的貓”，在相關企業(yè)機構沒有公布信息之前，輿論層面幾乎就沒有任何消息來說明中國芯片產業(yè)有了顯著的技術突破。此前的國際輿論也都是中國無法制造先進芯片，中國的光刻機產業(yè)存在嚴重滯后。

哪怕是搭載新麒麟芯片的華為手機上市一段時間之后，時任美國商務部部長的雷蒙多也在訪談中表示美國沒有任何證據能夠證明中國企業(yè)擁有量產先進芯片的能力，她打心眼里就不相信中國企業(yè)可以在美國的制裁封鎖中實現(xiàn)技術突破。

一直到華為連續(xù)推出了多款搭載麒麟芯片的產品之后，雷蒙多才對外表示制裁中國并不能阻擋中國企業(yè)發(fā)展自主技術，美國政府應該將目光放在推動本國企業(yè)的技術創(chuàng)新上面。

產能擴張

當下ai產業(yè)的發(fā)展造成了消費級別的存儲芯片產能緊張，美韓兩國企業(yè)紛紛宣布旗下的存儲芯片因產能因素出現(xiàn)價格上浮。在這種條件下，擁有產能優(yōu)勢，或者是擁有產能擴充的能力，那么其在全球存儲器行業(yè)將會占據較高的話語權。

據中國臺灣青輝半導體創(chuàng)始人葉國光表示，近些年來中國企業(yè)建設的晶圓廠已經形成了較為不錯的產業(yè)集群。一個廠區(qū)內不只有一座晶圓廠，如果將8英寸和12英寸晶圓廠的數(shù)量加在一起，中國大陸地區(qū)的晶圓廠數(shù)量已經達到了100座以上。

目前還有一些工廠的產能沒有跑滿，一旦中國晶圓廠的產能拉滿，擁有了規(guī)�；圃斓哪芰�，那么全球范圍內的半導體企業(yè)，除臺積電等專注于先進制程的工廠之外，其他企業(yè)將會面臨著中國芯片形成的強大壓力。

據ASML近幾年的財報大會表示，ASML大規(guī)模給中國企業(yè)交付產品是在2023年和2024年，這兩年分別給中國企業(yè)交付了421臺和418臺設備，甚至中國大陸地區(qū)在部分季度的財報上面占據了ASML總銷售的40%以上。

這些設備里面有少部分是浸潤式光刻機，其他大部分都是負責制造成熟芯片的干式DUV光刻機。

在采購光刻機的同時，中國企業(yè)還從美國應用材料等企業(yè)手中采購了刻蝕機、沉積設備、離子注入設備等匹配浸潤式光刻機的配套產品。通過ASML浸潤式光刻機和自對準多重圖案化技術來制造7nm芯片，突破美國的技術封鎖。

除先進芯片之外，中國企業(yè)在其他制程的芯片領域具備產能和規(guī)�；瘍�(yōu)勢，也具備去美化的供應鏈體系。未來要解決的問題，就是浸潤式光刻機和EUV光刻機的生產制造，從根源上解決制造先進芯片所面臨的不確定風險。