12月25日，中國政府采購網(wǎng)一則公示引爆半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè) —— 上海微電子裝備（集團）股份有限公司（SMEE）以10999.985 萬元中標(biāo) zycgr22011903 步進掃描式光刻機采購項目，設(shè)備型號為首次公開的 SSC800/10。

作為國內(nèi)唯一具備前道光刻機研發(fā)制造能力的企業(yè)，此次單一來源采購的大額中標(biāo)，不僅標(biāo)志著國產(chǎn)中高端光刻機正式邁入商業(yè)化落地新階段，更彰顯了其在核心技術(shù)領(lǐng)域的不可替代性，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)替代注入關(guān)鍵動力。

上海微電子商業(yè)化落地提速

上海微電子成立于 2002 年，隸屬上海電氣集團體系，背靠國資資源支持，已構(gòu)建起覆蓋前道制造、先進封裝、特種工藝的全系列光刻機產(chǎn)品矩陣，成為國產(chǎn)光刻機產(chǎn)業(yè)的絕對核心。

產(chǎn)品布局方面，公司形成成熟制程量產(chǎn)、中高端突破以及特色工藝領(lǐng)先的梯度格局。

前道光刻機領(lǐng)域，90nm ArF 機型已實現(xiàn)規(guī)?；慨a(chǎn)，國內(nèi)市場份額超 80%，年出貨量超 50 臺；28nm 浸沒式 DUV 光刻機（SSA/800-10W 型）于 2025 年 5 月完成首臺交付，目前已進入批量交付階段，良率提升至 95%，可覆蓋 350nm 至 28nm 全節(jié)點制造需求。

特色工藝領(lǐng)域，先進封裝光刻機全球市占率達 37%，國內(nèi)市占率更是高達 85%，2.5D/3D 先進封裝機型代表行業(yè)同類產(chǎn)品最高水平；LED 系列光刻機全球市占率 55%，占據(jù)市場主導(dǎo)地位。

此次中標(biāo)的 SSC800/10 為 248nm KrF 機型，分辨率 110nm，主要適配先進封裝、Mini/Micro LED、MEMS 等剛需場景，填補了國產(chǎn)該類機型的商業(yè)化空白。

市場與訂單層面，公司客戶覆蓋中芯國際、華虹半導(dǎo)體等頭部晶圓廠，以及科研機構(gòu)與政府項目。此次中標(biāo)采購方為科學(xué)技術(shù)部，采用單一來源采購方式，印證了其技術(shù)的不可替代性 —— 根據(jù)《政府采購法》，單一來源采購僅適用于采用不可替代專利、專有技術(shù)的特殊場景。

從金額來看，1.1 億元的成交價格雖低于 ASML DUV 光刻機（約 5 億元以上），但顯著高于國內(nèi)同類科研設(shè)備招標(biāo)規(guī)模，標(biāo)志著國產(chǎn)光刻機已具備商業(yè)級定價能力。產(chǎn)能方面，公司擴產(chǎn)計劃已通過審批，產(chǎn)業(yè)化進程加速，預(yù)計將支撐后續(xù)訂單規(guī)模化交付。

產(chǎn)業(yè)鏈帶動效應(yīng)顯著，公司通過技術(shù)協(xié)同構(gòu)建了完善的本土供應(yīng)鏈。核心供應(yīng)商包括福晶科技（獨家供應(yīng) KBBF 晶體、光場勻化器）、茂萊光學(xué)（28nm DUV 物鏡組，國產(chǎn)化率 60%）、蘇大維格（對準(zhǔn)系統(tǒng)）等，形成整機-核心零部件-材料的國產(chǎn)化生態(tài)，帶動上下游企業(yè)技術(shù)升級與產(chǎn)能釋放。

市場競爭與商業(yè)化挑戰(zhàn)并存

當(dāng)前，全球光刻機市場99% 的份額仍由 ASML、佳能、尼康占據(jù)，上海微電子在高端市場面臨激烈競爭。

同時，國產(chǎn)光刻機的客戶驗證周期長、良率穩(wěn)定性需持續(xù)優(yōu)化，部分下游企業(yè)仍傾向于選擇成熟的海外設(shè)備，商業(yè)化推廣速度可能不及預(yù)期。

此外，公司尚未上市，資本運作空間有限，大規(guī)模研發(fā)與擴產(chǎn)面臨一定的資金壓力。

未來，若能持續(xù)突破核心技術(shù)、完善供應(yīng)鏈、加速商業(yè)化落地，上海微電子有望逐步縮小與國際巨頭的差距，從國產(chǎn)龍頭成長為全球光刻機市場的重要參與者。

盡管前路漫漫，但此次中標(biāo)事件已充分證明，國產(chǎn)光刻機正以堅定的步伐打破壟斷，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控注入持續(xù)動力。