90%的光刻膠被日本壟斷，如果他們斷供，我們該怎么辦？

買過光刻機(jī)的朋友都知道，光刻膠非常重要。

哪怕沒有最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，DUV光刻機(jī)也行，再不濟(jì)使用二手的都行。

但是沒有光刻膠的話就慘了，不管你是什么光刻機(jī)，都工作不了。

而且光刻膠的保質(zhì)期就幾個月。

想靠囤貨根本不行，最后都爛到家里了。

更可怕的是，全球光刻膠市場，90%以上的份額都被日本壟斷。

光刻膠，顧名思義就是一種膠水，但這種膠水可不一般，它是一種特殊的感光材料。

在硅片上均勻涂抹一層光刻膠，然后用光透過掩膜版去照射它，被光照到的地方會發(fā)生變化。

之后再進(jìn)行一系列的蝕刻清洗工作，掩膜版上的電路圖案就會轉(zhuǎn)移到硅片上。

在芯片制造的整個流程中，光刻工藝占到了40%-50%的時間。

就算是非常牛X的EUV光刻機(jī)，沒有相應(yīng)的光刻膠，最后精度也達(dá)不到要求。

韓國三星集團(tuán)CEO就曾表示：“如果光刻機(jī)缺少了光刻膠，那么光刻機(jī)就是一堆廢鐵。”

光刻膠根據(jù)曝光波長不同，分為g譜線、i譜線、KrF、ArF和EUV五代。

制程越先進(jìn)，波長越短，就越能實現(xiàn)更精細(xì)的電路圖案。

而在高端光刻膠方面，目前主要由日本公司壟斷。

比如日本東京應(yīng)化，JSR，住友化學(xué)，信越化學(xué)等企業(yè)，他們掌握了全球半導(dǎo)體光刻膠市場90%左右的份額。

在半導(dǎo)體材料方面，前段工序常用的材料一共19種。

其中14種都由日本企業(yè)主導(dǎo)。

不同制程的光刻機(jī)，對應(yīng)著不同波長的光線，就得使用不同種類的光刻膠。

再加上光刻膠的保質(zhì)期只有6個月，靠囤貨肯定是不行的。

2019年日韓貿(mào)易爭端，日本突然宣布對出口韓國的三種關(guān)鍵半導(dǎo)體材料實施管制，其中就包括光刻膠，結(jié)果導(dǎo)致三星的芯片良率只有10%~20%，狗見了都搖頭。

那如果日本對我們斷供光刻膠，影響有多大？

據(jù)2024年中國光刻膠市場規(guī)模數(shù)據(jù)顯示，國產(chǎn)化率不足5%，即絕大部分依賴進(jìn)口，而進(jìn)口部分中日本占比超過一半。

2023年中國從日本進(jìn)口感光化學(xué)品（光刻膠為主）占比約50–54%。

論復(fù)雜性，光刻膠肯定是比不上光刻機(jī)的，中國當(dāng)然也能造。

此前就有公開資料顯示，在中端KrF光刻膠領(lǐng)域，國產(chǎn)化率正在飛速提升，預(yù)計2025年可達(dá)35%以上。

在使用國產(chǎn)光刻膠的情況下，南大光電等企業(yè)已實現(xiàn)28nm制程量產(chǎn)，芯片良率不輸于日本光刻膠。

至于ArF光刻膠，也有小批量驗證通過，部分進(jìn)入頭部晶圓廠供應(yīng)鏈。

中國計劃2026年國產(chǎn)化率達(dá)40%，國家大基金第二期優(yōu)先支持光刻膠等關(guān)鍵材料，頭部晶圓廠也主動驗證國產(chǎn)替代。

國內(nèi)多家企業(yè)，比如容大感光、晶瑞電材、彤程新材等已實現(xiàn)從樹脂到成品的全鏈條自主，成本較進(jìn)口低15%-20%。

雖然目前EUV光刻膠國內(nèi)暫時處于空白，但至少能滿足絕大部分芯片需求。

再者，如果日本敢做初一，中國絕對有能力做十五。

因為日本光刻膠的原材料非常依賴中國。

光刻膠的生產(chǎn)和儲存，以及半導(dǎo)體硅片的提煉，都離不開高純度石英砂。

而中國掌握了全球62%的高純石英砂供應(yīng)。

沒有中國的石英砂，日本連盛放光刻膠的特種玻璃瓶都造不出來，更別提硅片生產(chǎn)用的石英坩堝了。

同時，日本芯片產(chǎn)業(yè)也高度依賴從中國進(jìn)口的電子級氫氟酸、光引發(fā)劑中間體等原料。

特種氟化物，中國占全球48%；光引發(fā)劑中間體，中國占全球55%。

至于鎵，鍺，鏑、鋱等半導(dǎo)體材料所需的稀土元素，還用多說么？

一旦中國切斷上游原材料供應(yīng)，日本的光刻膠乃至整個半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)將面臨“無米下鍋”的絕境。

所以，中日半導(dǎo)體材料供應(yīng)鏈，其實已經(jīng)形成了“相互卡脖子”的局面。