01產(chǎn)業(yè)驅(qū)動(dòng)因素

①半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控需求催生國(guó)產(chǎn)光刻膠市場(chǎng)空間

和國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)起步較晚的局面類(lèi)似，光刻膠等上游原材料供應(yīng)更多依賴(lài)于全球先發(fā)國(guó)家的產(chǎn)業(yè)鏈。

國(guó)內(nèi)光刻膠相關(guān)企業(yè)多以I線、G線等成熟制程的光刻膠產(chǎn)品為主，目前這些低端產(chǎn)品的國(guó)產(chǎn)化自給率已經(jīng)達(dá)到20%。

適用于8英寸硅片和12英寸硅片的高端光刻膠產(chǎn)品，目前國(guó)產(chǎn)自給率還不到10%，下游晶圓廠商基本采購(gòu)日本企業(yè)的相關(guān)產(chǎn)品。

在全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)，合成橡膠(JSR)、信越化學(xué)、東京應(yīng)化、住友化學(xué)等日本企業(yè)占據(jù)著絕對(duì)主導(dǎo)地位。

盡管產(chǎn)業(yè)界暫時(shí)沒(méi)有有關(guān)光刻膠可能斷供的確切消息，但是這種嚴(yán)重依賴(lài)于他人的供應(yīng)端局面，未來(lái)將更加影響著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的穩(wěn)定性。

隨著全球競(jìng)爭(zhēng)進(jìn)入全方位博弈狀態(tài)，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)于關(guān)鍵材料自主可控的需求非常緊迫，光刻膠國(guó)產(chǎn)替代潛在市場(chǎng)空間廣闊。

②國(guó)內(nèi)晶圓廠產(chǎn)能持續(xù)增長(zhǎng)擴(kuò)大光刻膠市場(chǎng)規(guī)模

之前，半導(dǎo)體市場(chǎng)需求主要集中于電腦、智能手機(jī)等消費(fèi)電子產(chǎn)業(yè)。

最近幾年，隨著人工智能AI、高性能計(jì)算（HPC）和新能源汽車(chē)等新興經(jīng)濟(jì)形態(tài)對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)能需求日益增長(zhǎng)，驅(qū)動(dòng)晶圓廠產(chǎn)能擴(kuò)張。

預(yù)計(jì)到2026年，國(guó)內(nèi)12英寸高端晶圓廠月產(chǎn)能有望達(dá)到240萬(wàn)片，在全球市場(chǎng)中的比重將增長(zhǎng)到25%。

這些新晶圓廠產(chǎn)能進(jìn)一步擴(kuò)大了國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模，成為相關(guān)企業(yè)的發(fā)展契機(jī)。

02產(chǎn)業(yè)全景圖

03上游產(chǎn)業(yè)鏈

03-1主要原材料

半導(dǎo)體制造中的光刻工藝?yán)霉饣瘜W(xué)反應(yīng)，經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等流程將掩膜版設(shè)計(jì)圖案“復(fù)制”到晶圓表面，屬于晶圓加工的最核心工藝。

光刻膠作為光化學(xué)反應(yīng)的主體，它的穩(wěn)定性決定著晶圓圖形的準(zhǔn)確性，極其重要。

光刻膠主要由光引發(fā)劑、樹(shù)脂、溶劑、單體及其他助劑等重要部分組成，樹(shù)脂和光引發(fā)劑是其中的關(guān)鍵組分。

樹(shù)脂決定光刻膠的硬度等基本理化性能，在光刻膠生產(chǎn)中用量也最大，很多產(chǎn)品中成本占比超過(guò)50%。

光引發(fā)劑作為光刻工藝中光化學(xué)反應(yīng)的主體，是實(shí)現(xiàn)晶圓圖案完美轉(zhuǎn)移的影響因素，成本占比約在20%左右，僅次于樹(shù)脂。

其他成分雖然純度要求較高，但是技術(shù)難度普遍較低，廠商通過(guò)對(duì)外采購(gòu)即可保障原材料供應(yīng)。

03-2樹(shù)脂

樹(shù)脂在光刻工藝中并不發(fā)生反應(yīng)，在光刻膠中的主要作用是將其他幾種成分混合在一起，使得光刻膠能夠保持穩(wěn)定的狀態(tài)。

不過(guò)，樹(shù)脂作為產(chǎn)品中用量最大的組分，透光性能也影響著光刻工藝的質(zhì)量如何，因此保證質(zhì)量的始終如一。

越是先進(jìn)制程，光刻機(jī)的光源波長(zhǎng)越短，透光性也完全不同，因此，特定的光刻膠樹(shù)脂必須和特定波長(zhǎng)的光刻工藝一一對(duì)應(yīng)。

這使得不同光刻膠中的樹(shù)脂無(wú)法通用，必須按照光刻機(jī)光源特點(diǎn)針對(duì)性生產(chǎn)，變相增加了生產(chǎn)的復(fù)雜性。

樹(shù)脂成品是在樹(shù)脂單體基礎(chǔ)上化學(xué)合成而來(lái)，也是高端光刻膠樹(shù)脂，相應(yīng)的單體合成率也會(huì)越低，進(jìn)一步提高了生產(chǎn)難度。

行業(yè)數(shù)據(jù)顯示，1噸KrF光刻膠單體大約能夠合成0.8-0.9噸KrF樹(shù)脂，而1噸ArF光刻膠單體只能合成0.5-0.6噸ArF樹(shù)脂，差異較大。

高端光刻膠樹(shù)脂原料的穩(wěn)定供應(yīng)是實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)光刻膠量產(chǎn)突破的關(guān)鍵因素。

03-3相關(guān)標(biāo)的

①南大光電：能夠自主研制功能單體、功能樹(shù)脂、光敏劑等關(guān)鍵光刻膠材料，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)從光刻膠原材料到光刻膠產(chǎn)品及配套材料的全部自主化。

②強(qiáng)力新材：國(guó)內(nèi)少數(shù)專(zhuān)業(yè)從事樹(shù)脂、光引發(fā)劑等專(zhuān)用化學(xué)品的企業(yè)，下游客戶包括東京應(yīng)化、JSR、住友化學(xué)、三星SDI等全球知名光刻膠廠商。

③八億時(shí)空：建成國(guó)內(nèi)首條百?lài)嵓?jí)半導(dǎo)體KrF光刻膠樹(shù)脂產(chǎn)線，計(jì)劃未來(lái)五年具備年產(chǎn)200噸-300噸高端光刻膠樹(shù)脂的生產(chǎn)能力。

04中游產(chǎn)業(yè)鏈

04-1光刻膠配方

根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域的區(qū)別，廣義上的光刻膠還分為PCB光刻膠、LCD面板光刻膠和半導(dǎo)體光刻膠三大類(lèi)。

從技術(shù)難度角度來(lái)看，半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘最高，LCD光刻膠次之，PCB光刻膠技術(shù)壁壘最低。

盡管市場(chǎng)上光刻膠產(chǎn)品非常成熟，但是其中的配方無(wú)法通過(guò)現(xiàn)有產(chǎn)品的分析來(lái)獲得，研發(fā)廠家必須獨(dú)立試驗(yàn)得到。

光刻膠后發(fā)廠商需要對(duì)成百上千個(gè)樹(shù)脂、光引發(fā)劑和添加劑進(jìn)行組合，還要不斷對(duì)各成分的比例進(jìn)行調(diào)整試驗(yàn)，才有可能完全匹配現(xiàn)有產(chǎn)品性能。

前期研發(fā)投入時(shí)間周期相對(duì)較長(zhǎng)，考驗(yàn)著后發(fā)廠商持續(xù)投入的決心。

04-2驗(yàn)證周期長(zhǎng)

即便是廠商能夠拿出性能媲美現(xiàn)有光刻機(jī)的產(chǎn)品，下游晶圓廠商也需要對(duì)新產(chǎn)品進(jìn)行嚴(yán)格的驗(yàn)證。

客戶通常會(huì)對(duì)新光刻膠進(jìn)行PRS（基礎(chǔ)工藝考核）、STR（小批量試產(chǎn)）、MSTR（中批量試產(chǎn)）、RELEASE（量產(chǎn)）四個(gè)階段的驗(yàn)證，整個(gè)驗(yàn)證周期長(zhǎng)達(dá)2-3年。

對(duì)于晶圓廠來(lái)說(shuō)，新產(chǎn)品的長(zhǎng)時(shí)間驗(yàn)證也要消耗人力物力，因此，晶圓廠往往傾向于和原有廠商的長(zhǎng)期合作。

這也是為什么國(guó)內(nèi)廠商之前依賴(lài)于東京應(yīng)化、JSR、住友化學(xué)等日企供應(yīng)的原因之一，如今自主可控的供應(yīng)鏈安全卻提上了日程。

04-3相關(guān)標(biāo)的

①彤程新材：子公司光刻膠產(chǎn)品全面覆蓋ArF線、KrF線、G線、I線和負(fù)膠，上半年半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)同比增長(zhǎng)超過(guò)50%，顯示光刻膠產(chǎn)品穩(wěn)居國(guó)內(nèi)第二大供應(yīng)商地位。

②晶瑞電材：公司建成了具有國(guó)際水平的高端光刻膠生產(chǎn)線和測(cè)試實(shí)驗(yàn)平臺(tái)，同時(shí)擁有紫外寬譜、G線、I線、KrF線、ArF線等全系列光刻機(jī)測(cè)試實(shí)驗(yàn)平臺(tái)。

③華懋科技：公司通過(guò)投資徐州博康進(jìn)入半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品領(lǐng)域，相關(guān)光刻膠產(chǎn)品包括i線、KrF線和ArF線等幾十款光刻膠產(chǎn)品。

④容大感光：全面布局PCB、LCD面板和半導(dǎo)體光刻膠等業(yè)務(wù)，公司主要以PCB光刻膠為主，半導(dǎo)體光刻膠產(chǎn)品主要為G線和I線低端光刻膠。

⑤上海新陽(yáng)：主營(yíng)半導(dǎo)體材料業(yè)務(wù)，光刻膠領(lǐng)域已經(jīng)建成I線、KrF、ArF干法、ArF浸沒(méi)式等各類(lèi)光刻膠平臺(tái)，部分品類(lèi)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化，少數(shù)品類(lèi)達(dá)到行業(yè)領(lǐng)先水平。

⑥鼎龍股份：公司潛江二期募投年產(chǎn)300噸KrF/ArF高端光刻膠項(xiàng)目順利推進(jìn)，計(jì)劃2025年四季度進(jìn)入全面試運(yùn)行階段，保障未來(lái)量產(chǎn)穩(wěn)定。

05下游產(chǎn)業(yè)鏈

隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，PCB和顯示面板產(chǎn)能在全球市場(chǎng)實(shí)現(xiàn)了全面領(lǐng)先，充分掌握了相關(guān)話語(yǔ)權(quán)。

行業(yè)數(shù)據(jù)顯示，2024年國(guó)內(nèi)芯片市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到1.5萬(wàn)億元，全球比重達(dá)到35%，成為最大的半導(dǎo)體芯片消費(fèi)市場(chǎng)。

為了滿足半導(dǎo)體需求，國(guó)內(nèi)晶圓廠產(chǎn)能也在持續(xù)增加，這些都是國(guó)內(nèi)光刻膠廠商的成長(zhǎng)空間。

行業(yè)數(shù)據(jù)顯示，2024年國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約115億元，預(yù)計(jì)2025年增長(zhǎng)到125億元，未來(lái)將進(jìn)入加速發(fā)展階段。

06發(fā)展趨勢(shì)

總的來(lái)看，光刻膠作為芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵原材料，嚴(yán)重依賴(lài)進(jìn)口的局面影響著產(chǎn)業(yè)鏈的穩(wěn)定性，自主可控需求將為國(guó)產(chǎn)光刻膠廠商釋放出市場(chǎng)紅利。

本文引用參考圖片和文獻(xiàn)：上海證券、開(kāi)源證券、民生證券、國(guó)泰海通證券、浙商證券、Wind、同花順、行行查、蘿卜投研數(shù)據(jù)網(wǎng)站、各公司公開(kāi)資料，不代表本人立場(chǎng)，不構(gòu)成投資建議。

#光刻膠、#半導(dǎo)體、#自主可控

以上分析不構(gòu)成具體投資建議。股市有風(fēng)險(xiǎn)，投資需謹(jǐn)慎。