第二只靴子終于落下了——在美國宣布美日荷三方芯片協(xié)議之后，具體的協(xié)議內(nèi)容卻一直處于煙籠霧繞的狀態(tài)，誰也看不清內(nèi)容的真相是什么。但是在3月8日作為參與方之一的荷蘭終于發(fā)布了正式表態(tài)：將會(huì)對(duì)“最先進(jìn)”的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)行封鎖（The Dutch government has said it will impose export restrictions on the “most advanced” semiconductor technology）。

其中著重提到了“DUV”（深紫外線）這項(xiàng)技術(shù)，這是僅次于“EUV”（極紫外線）之外最為先進(jìn)的光刻機(jī)，也被國內(nèi)眾多芯片廠商所廣泛采用，在28nm等成熟制程中擁有廣泛的使用前景。

根據(jù)ASML的財(cái)報(bào)顯示，自2014年開始向中國出售了超過80億美元的DUV光刻機(jī)設(shè)備。按照DUV光刻機(jī)平均一臺(tái)1000萬左右的價(jià)格計(jì)算，這也就意味著在8年的時(shí)間中，累計(jì)出售的DUV光刻機(jī)數(shù)量為800臺(tái),平均每年向中國出售的光刻機(jī)數(shù)量高達(dá)100臺(tái)，這其實(shí)已經(jīng)是一個(gè)不小的數(shù)目了。

那么為什么會(huì)說800臺(tái)光刻機(jī)受到影響呢？因?yàn)楹商m方面的聲明中留下了一個(gè)重大的問題點(diǎn)——在新的出口管制措施開始施行之后，之前已經(jīng)出售的800臺(tái)光刻機(jī)的維護(hù)服務(wù)也成為了一樁懸案。

作為最精密的儀器，光刻機(jī)從來不是一錘子買賣，生產(chǎn)不同制程、不同種類的芯片也都需要重新對(duì)光刻機(jī)進(jìn)行調(diào)整。而由于DUV光刻機(jī)中帶有防止“逆工程化”的模塊，因此一旦不經(jīng)過ASML的允許而擅自調(diào)整，那么這臺(tái)光刻機(jī)就有報(bào)廢的風(fēng)險(xiǎn)。

那么為什么ASML不得不接受美國提出的三方芯片協(xié)議？這也和ASML自己曾經(jīng)的選擇有關(guān)。在21世紀(jì)初，為了擊敗尼康和佳能這兩大主要光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，作為后來者的ASML加入了由包括英特爾、IBM、AMD在內(nèi)的美企主導(dǎo)的EUV LLC聯(lián)盟，并由此獲得了EUV技術(shù)，因此也成為全球僅有的有能力制造EUV光刻機(jī)的廠商。

EUV光刻機(jī)技術(shù)讓ASML后來居上成為全球最大的光刻機(jī)設(shè)備制造廠商，但同時(shí)也成為了ASML最大的枷鎖——作為加入EUV LLC付出的代價(jià)，ASML必須從美國廠商處采購占比為50%的零件。

這也是ASML不得不接受芯片三方協(xié)議的根本原因。但是在荷蘭公布三方協(xié)議之后，ASML面對(duì)巨大損失的同時(shí)并沒有坐以待斃，而是做出了自己的解釋。對(duì)于最先進(jìn)的設(shè)備（“most advanced”），ASML認(rèn)為是TWINSCANNXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)，先進(jìn)程度相對(duì)較低的浸潤式光刻系統(tǒng)已能很好滿足成熟制程為主的客戶的需求。

這實(shí)際上也是ASML在加入芯片協(xié)議之后給出自己的條件——TWINSCANNXT：2000i以及更先進(jìn)的光刻機(jī)可以如美國所愿斷供，但是比其落后的光刻機(jī)則不應(yīng)該在斷供之列?？梢哉fASML為了保住自己的利潤也是煞費(fèi)苦心。

芯片協(xié)議造成的影響首當(dāng)其沖就是包括中芯國際、華虹國際在內(nèi)的芯片制造廠商。不僅僅是獲取新光刻機(jī)的難度增加，已有光刻機(jī)的維修和維護(hù)同樣成為巨大的難題。

但正所謂走的人多了就有了路，ASML的決定也將倒逼上海微電子等國產(chǎn)光刻機(jī)廠商的進(jìn)步和發(fā)展。以往很多廠商迷信ASML的技術(shù)和名聲，如今在國產(chǎn)光刻機(jī)成為唯一選擇之后，也將帶來更多的訂單和利潤。通過將利潤投入到研發(fā)中去，國產(chǎn)光刻機(jī)突破的那一天終將到來。