前沿導(dǎo)讀

王陽元、趙晉榮、陳南翔、魏少軍等中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)領(lǐng)軍人在科技導(dǎo)報上面發(fā)布了《構(gòu)建自主可控的集成電路產(chǎn)業(yè)體系》報告，據(jù)報告內(nèi)容指出，制造設(shè)備作為半導(dǎo)體行業(yè)的核心支柱，近年來在自主可控與國產(chǎn)替代的大背景下，本土化趨勢愈發(fā)明顯。

中微半導(dǎo)體制造的先進刻蝕機，已經(jīng)進入到了臺積電7nm及5nm生產(chǎn)線中。而中國的國產(chǎn)28nm光刻機（ArF，Immersion），也已經(jīng)進入工藝測試階段。

國產(chǎn)設(shè)備

這份產(chǎn)業(yè)報告總共有13位人員聯(lián)名提議，這13位人員都是來自中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的企業(yè)領(lǐng)導(dǎo)以及高校教授。

王陽元是中科院院士，同時也是中芯國際的聯(lián)合創(chuàng)始人之一；陳南翔是長江存儲董事長、中國第八屆半導(dǎo)體協(xié)會理事長；劉偉平是中國EDA企業(yè)華大九天的董事長、中國半導(dǎo)體協(xié)會副理事長；趙晉榮是北方華創(chuàng)公司董事長、中國半導(dǎo)體協(xié)會副理事長；魏少軍是清華大學(xué)微電子研究所教授、中國半導(dǎo)體協(xié)會副理事長，同時也是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的核心推動者與領(lǐng)軍人物。

這些產(chǎn)業(yè)報告的聯(lián)名作者，都是奮斗在中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一線的人物，他們在報告當(dāng)中所提出的建議以及對待產(chǎn)業(yè)發(fā)展的態(tài)度，也就代表了整個中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的態(tài)度。

目前中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對比剛被美國制裁的2018年，已經(jīng)有了明顯技術(shù)進步，但是在部分卡脖子環(huán)節(jié)仍然具備較大的追趕空間。

首先就是設(shè)計芯片的EDA軟件工具，這個領(lǐng)域被新思、楷登、西門子三家公司掌控，這三家公司合計占全球總EDA市場的81%。而中國的國產(chǎn)EDA企業(yè)，例如華大九天、概論電子、廣立微等企業(yè)，在EDA的銷售市場中距離三家巨頭還有很大距離。

2024年全球EDA的市場規(guī)模為117.9億美元，新思、楷登、西門子三巨頭的銷售額分別為42.2億、32.9億、19.8億美元，而華大九天的規(guī)模為1.56億美元。

盡管與國際巨頭相比差距較大，但是對于中國本土企業(yè)來說，已經(jīng)取得了很不錯的進步。華大九天的EDA工具已經(jīng)進入到了中芯國際、紫光展銳、海思、京東方等公司的設(shè)計環(huán)節(jié)中，依靠國內(nèi)企業(yè)的支持，華大九天已經(jīng)擠進全球EDA企業(yè)第六名的好成績。

然后就是重點被卡脖子的設(shè)備產(chǎn)業(yè)，中國企業(yè)在高端刻蝕機領(lǐng)域最先實現(xiàn)了技術(shù)突破，中微半導(dǎo)體的先進刻蝕機產(chǎn)品已經(jīng)進入到臺積電7nm及5nm的生產(chǎn)線中。這是目前已知的，唯一一個被全球頂級晶圓廠納入先進供應(yīng)鏈體系的大陸設(shè)備企業(yè)。

而大家最關(guān)注的國產(chǎn)光刻機產(chǎn)品，由上海微電子公司推出的28nm浸潤式光刻機也已經(jīng)進入工藝測試階段，還未正式邁入商業(yè)化環(huán)節(jié)。

28nm浸潤式光刻機，一般指的是可以制造28nm芯片，并且可以通過多重圖案化技術(shù)制造更加先進節(jié)點的設(shè)備。ASML首臺面向先進節(jié)點的28nm光刻機是NXT:1970i，該設(shè)備在2024年被美國實施出口管制，無法交付給中國大陸地區(qū)涉及先進晶圓制造業(yè)務(wù)的工廠。

其他配套的國產(chǎn)設(shè)備也已經(jīng)在有序推進當(dāng)中，拓荊科技的14nm沉積設(shè)備已進入大陸晶圓廠生產(chǎn)線，華海清科的晶圓減薄機也已進入規(guī)模化應(yīng)用，而大陸地區(qū)最大的設(shè)備集團北方華創(chuàng)，也已經(jīng)形成了從刻蝕到離子注入的全套設(shè)備布局，整個產(chǎn)業(yè)鏈都在推進國產(chǎn)設(shè)備的規(guī)�；瘧�(yīng)用。

未來目標(biāo)

在《構(gòu)建自主可控的集成電路產(chǎn)業(yè)體系》報告當(dāng)中，作者們將未來重點攻關(guān)目標(biāo)放在了EDA軟件工具、國產(chǎn)EUV光刻機及配套材料、300mm大硅片這三點上面。

EDA工具常年被海外巨頭統(tǒng)治，雖然國產(chǎn)EDA工具已實現(xiàn)應(yīng)用，但在高端芯片的設(shè)計上面還有進步空間。

EUV光刻機是老生常談的問題，也是美國針對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)實施制裁的核心“武器”。ASML的EUV光刻機供應(yīng)鏈來自于全球5100家企業(yè)，其零部件數(shù)量高達幾十萬個，ASML負責(zé)將所有零件拼湊在一起形成一個可以持續(xù)運行的主體。

報告指出，中國在EUV領(lǐng)域已經(jīng)實現(xiàn)了多個子系統(tǒng)的技術(shù)突破，包括光源、晶圓臺、對準(zhǔn)系統(tǒng)等。下一步便是集中力量，創(chuàng)辦一個屬于中國人的ASML公司，將各領(lǐng)域的人才以及工程師聚集在一起，統(tǒng)一調(diào)度資源，共同完成國產(chǎn)EUV光刻機的突破。

在推動光刻機發(fā)展的同時，材料領(lǐng)域也要同步發(fā)展，光刻膠以及300mm大硅片（晶圓）是目前較為短板的材料。

300mm對應(yīng)12英寸、200mm對應(yīng)8英寸、150mm對應(yīng)6英寸。

中國企業(yè)在6英寸晶圓領(lǐng)域已具備完全國產(chǎn)化能力，8英寸領(lǐng)域正在大規(guī)模國產(chǎn)化應(yīng)用，國內(nèi)市場份額接近70%。12英寸正在快速推進國產(chǎn)化能力，市場份額約為55%。

在光刻膠領(lǐng)域，南大光電已實現(xiàn)28nm節(jié)點ArF光刻膠的量產(chǎn)商用，公司2025年新增了三款A(yù)rF光刻膠產(chǎn)品通過客戶驗證并獲得商業(yè)訂單，其全年光刻膠收入已突破2000萬元。

參考資料：
南大光電一季度業(yè)績增長，將開股東大會，光刻膠業(yè)務(wù)獲突破

• https://m.eeo.com.cn/2026/0425/851720.shtml

晶瑞電子制造的G線光刻膠已實現(xiàn)30%的國內(nèi)市占率，正在推進國產(chǎn)KrF光刻膠的國產(chǎn)化進度。

中國半導(dǎo)體領(lǐng)軍人們所制定的發(fā)展目標(biāo)，首先要繼續(xù)夯實國產(chǎn)28nm及以上全產(chǎn)業(yè)鏈體系的自主可控，然后讓國產(chǎn)14nm生產(chǎn)線穩(wěn)定運行，緊接著初步完成國產(chǎn)7nm生產(chǎn)線的試運行，將國產(chǎn)供應(yīng)鏈體系逐步滲透到商業(yè)化生產(chǎn)線中。