央視做了一期節(jié)目，頭一回把全球最強光刻機High-NA EUV的真實畫面端到了國內(nèi)觀眾跟前，再次打破西方技術(shù)封鎖。

單臺售價約3.5億歐元，換算成人民幣差不多27億，整機重量超過150噸，拆開了得裝250個貨箱，到了工廠以后250名工程師連軸轉(zhuǎn)六個月才裝得好。

而幾乎就在央視曝光的同一個時間窗口，美國出了個大動作。

2026年4月2日，美國參眾兩院聯(lián)合端出了《MATCH法案》，目標(biāo)很明確，就是要把對中國大陸的芯片設(shè)備封鎖從高端制程往成熟制程全面鋪開。

先聊聊這臺機器到底憑什么值這個價。High-NA EUV采用了0.55數(shù)值孔徑的光學(xué)系統(tǒng)，臨界尺寸能做到8納米，是目前全球唯一有能力量產(chǎn)2納米及以下制程芯片的設(shè)備。

全世界能造它的只有荷蘭ASML一家，別無分號。它的單機功耗超過1兆瓦，光是為了接納這臺機器，晶圓廠就得先花大約2億美元改造供電系統(tǒng)和廠房基礎(chǔ)設(shè)施。

裝完之后還沒完，校準(zhǔn)工作又要3到6個月，精度得達到飛米級別，也就是比一個原子還小的尺度。從出廠到真正投入量產(chǎn)，前前后后將近一年。

買得起只是入門。ASML每年收取的服務(wù)費大約占設(shè)備售價的15%到20%，算下來一年光維保就要幾千萬美元。如果良率上不去、產(chǎn)量跑不滿，這臺機器就不是印鈔機，而是碎鈔機。

所以你會看到一個很有意思的現(xiàn)象：臺積電雖然是全球代工龍頭，但對這臺設(shè)備的態(tài)度出奇地冷靜。臺積電預(yù)計今年內(nèi)接收首批High-NA EUV設(shè)備，可實際量產(chǎn)部署可能要等到2029年甚至2030年以后的1納米工藝節(jié)點才會真正上線。他們寧愿多用幾步傳統(tǒng)EUV多重曝光來過渡，也不急著把這臺＂金疙瘩＂推上產(chǎn)線。

相比之下，英特爾的動作就激進得多。

早在2025年12月，英特爾率先部署了全球首臺商用High-NA EUV光刻系統(tǒng)，型號是ASML Twinscan EXE:5200B。

三星也緊跟其后，在2025年底收到了第一臺同型號設(shè)備，今年上半年還要再進一臺。ASML自己的預(yù)期是2026年出貨5到10臺，2028年年產(chǎn)量提到20臺以上，到2030年這條業(yè)務(wù)線可能貢獻200億到250億歐元的營收。

然而對中國大陸來說，這臺機器目前就是櫥窗里的蛋糕，看得見摸不著。

ASML從來沒獲準(zhǔn)向中國大陸出售過任何一臺EUV設(shè)備，不管是上一代還是這一代。而《MATCH法案》的出臺，更是把封鎖線往前推了一大步。這個法案不光盯著EUV，連DUV光刻機、刻蝕機這些成熟制程設(shè)備都要納進來。

法案點名了華為、中芯國際、長江存儲、長鑫存儲、華虹半導(dǎo)體五家核心企業(yè)，對它們實施近乎全面的先進晶圓制造設(shè)備出口禁令，而且覆蓋了設(shè)備全生命周期的交易、使用、轉(zhuǎn)售和維護。

過去那種只盯著具體工廠而不管企業(yè)主體的執(zhí)行漏洞，這回被堵得嚴(yán)嚴(yán)實實。

更狠的是，法案要求荷蘭、日本、韓國、德國等盟友在150天內(nèi)把本國管制政策跟美國對齊，做不到就動用外國直接產(chǎn)品規(guī)則進行懲罰。

28納米這個節(jié)點，很多人覺得＂不夠先進＂，但全球超過七成的芯片需求集中在成熟制程。汽車電子、工業(yè)控制、家電主控、物聯(lián)網(wǎng)終端，用的全是這一檔。上海微電子的28納米DUV光刻機已經(jīng)通過中芯國際驗證，良率做到了90%，達到量產(chǎn)門檻。

公司計劃在2025年底前建成5條量產(chǎn)線，年產(chǎn)能50臺，2026年目標(biāo)市占率沖到25%。更值得一提的是，在多重曝光工藝加持下，28納米DUV設(shè)備可以間接實現(xiàn)14納米芯片量產(chǎn)，中芯國際已經(jīng)用這套方案穩(wěn)定出貨了。沒有EUV就造不了好芯片？這個論斷正在被事實一點點推翻。

真正讓業(yè)界興奮的還有光源領(lǐng)域的突破。

中科院上海光學(xué)精密機械研究所的團隊，由前ASML光源技術(shù)負(fù)責(zé)人林楠帶隊，選了一條跟ASML完全不同的路，用固態(tài)激光器替代二氧化碳激光器方案，做出了3.42%的最大轉(zhuǎn)換效率，超過了蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等歐洲頂尖機構(gòu)的實驗紀(jì)錄。

雖然跟ASML目前商用方案的5.5%轉(zhuǎn)換效率還有差距，但這條路的意義不在于馬上替代，而在于不受制于人。掌握了底層光源技術(shù)，后面的整機集成才不會被人掐著喉嚨。

差距我們看得清清楚楚，但被看見的差距才是能被追上的差距。

從28納米量產(chǎn)落地到固態(tài)EUV光源驗證成功，從多重曝光工藝?yán)@路突圍到全產(chǎn)業(yè)鏈兩千多家企業(yè)協(xié)同攻關(guān)，每一步都不算快，但每一步都踩在實處。