對(duì)甲苯磺?；═s）是醇、酚、胺的常用保護(hù)基，磺酸酯在加熱、酸性、氫化鋁鋰條件下穩(wěn)定，芳基磺酸酯穩(wěn)定性強(qiáng)、烷基磺酸酯離去性優(yōu)異，是取代、消除、交叉偶聯(lián)反應(yīng)的關(guān)鍵合成子。傳統(tǒng)芳基對(duì)甲苯磺酸酯脫保護(hù)需強(qiáng)堿、溶解金屬還原、電化學(xué)等苛刻條件；部分光化學(xué)方法需紫外光，與醛、酮、硝基等官能團(tuán)不兼容；金屬催化易出現(xiàn)富電子底物收率低問題。

2025年， Kasmier Vicioso等人 報(bào)道了一種利用可見光光（ 456 nm ）催化的對(duì)甲苯磺酸酯還原脫保護(hù)制備對(duì)應(yīng)苯酚的方法，最高收率可達(dá)93%。該新方法中，10-溴蒽-9-酮經(jīng)去質(zhì)子化與光激發(fā)生成的激發(fā)態(tài)烯醇鹽，可選擇性斷裂芳基對(duì)甲苯磺酸酯底物上的 S-O 鍵，釋放酚鹽陰離子；且該脫保護(hù)方法耐受常見官能團(tuán)。因此，該轉(zhuǎn)化提供了一種正交脫保護(hù)策略，有望用于有機(jī)合成和藥物化學(xué)中芳基對(duì)甲苯磺酸酯的后期脫保護(hù)。 【 J. Org. Chem., 2025 , 90, 16828-16832； https://doi.org/10.1021/acs.joc.5c02061 】

反應(yīng)條件優(yōu)化

以 4-甲?；交鶎?duì)甲苯磺酸酯（1a）為模板底物，系統(tǒng)優(yōu)化堿、催化劑用量、溶劑等條件。

溶劑固定為無(wú)水 DMSO，光源為 456 nm 藍(lán)光 LED，反應(yīng)時(shí)間 24 h，氮?dú)夥諊?/p>

堿的篩選：K?CO?（收率 26%）< Cs?CO?（收率 71%）< Et?N（收率 51%）<DIPEA（N,N - 二異丙基乙胺，收率 82%）。

催化劑用量：20 mol% Br-Ant 時(shí)收率最優(yōu)（82%），降至 10 mol% 收率僅 47%，不加催化劑僅痕量產(chǎn)物。

控制實(shí)驗(yàn)：無(wú)堿、無(wú)光條件下均無(wú)產(chǎn)物生成，證明光、堿、催化劑三者缺一不可；

最優(yōu)條件：0.2 mmol 底物、20 mol% Br-Ant、3 eq DIPEA、0.1 M 濃度、無(wú)水 DMSO、藍(lán)光 LED 照射 24 h。

底物適用范圍

在最優(yōu)反應(yīng)條件下進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，所有底物實(shí)驗(yàn)均平行三次，取平均分離收率。

吸電子基取代芳基：氰基、硝基、酯基、酮基取代底物均兼容，4-甲?；交a(chǎn)物（2a）收率 82%，4 - 氰基苯基產(chǎn)物（2d）收率 78%，4 - 酯基苯基產(chǎn)物（2e）收率 50%；兼具吸 / 供電子基底物：雙取代底物可順利轉(zhuǎn)化（2c），收率良好。

富電子基取代芳基：甲氧基（鄰位 2l、間位 2m）收率優(yōu)異，烷基、芐基取代底物均能以良好收率得到對(duì)應(yīng)苯酚。

特殊結(jié)構(gòu)底物：1-萘酚磺酸酯（2s）正常反應(yīng)；含烯烴底物（2f）僅發(fā)生脫磺酰化，烯烴保留，體現(xiàn)化學(xué)選擇性。

鹵代芳基底物：溴代底物（1i）生成 4 - 溴苯酚（2i），收率 75%；氟代底物（1g）收率僅 16%；氯代底物（1h）完全轉(zhuǎn)化但無(wú)目標(biāo)產(chǎn)物，因 C?Cl 鍵與 S?O 鍵還原電位相近，發(fā)生競(jìng)爭(zhēng)性還原聚合。

放大實(shí)驗(yàn)：2.0 mmol（10 倍量）模板底物反應(yīng)，產(chǎn)物（2a）收率 70%，證明方法具備合成實(shí)用性。

機(jī)理研究與推測(cè)機(jī)理

自由基捕獲實(shí)驗(yàn)：加入自由基捕獲劑 TEMPO 后，反應(yīng)完全被抑制，原料定量回收，證明反應(yīng)經(jīng)自由基中間體進(jìn)行。

推測(cè)機(jī)理：（1）DIPEA 作為堿使 Br-Ant 去質(zhì)子化，生成Br-Ant 烯醇鹽；（2）烯醇鹽經(jīng)藍(lán)光 LED 激發(fā)，形成強(qiáng)還原性激發(fā)態(tài)陰離子 (*-Br-Ant)；（3）激發(fā)態(tài)陰離子向芳基磺酸酯轉(zhuǎn)移單電子，生成自由基陰離子中間體，發(fā)生S?O 鍵斷裂，釋放對(duì)甲苯磺?；c酚鹽陰離子；（4）DIPEA 作為犧牲電子供體，使催化劑再生，完成催化循環(huán)；（5）酸性后處理將酚鹽轉(zhuǎn)化為目標(biāo)苯酚。

本文開發(fā)了一種光氧化還原催化的芳基對(duì)甲苯磺酸酯脫保護(hù)反應(yīng)，能以中等至優(yōu)異收率生成對(duì)應(yīng)苯酚。本文證實(shí)鹵素（尤其是芳基氯、氟代底物）易發(fā)生副反應(yīng)；該光還原脫對(duì)甲苯磺酰基方法區(qū)別于傳統(tǒng)方法，無(wú)需使用強(qiáng)親核試劑或強(qiáng)酸即可實(shí)現(xiàn) S?O 鍵斷裂，對(duì)酯鍵、醚鍵具有化學(xué)選擇性，可兼容烯烴、酮、氰基、硝基等多種官能團(tuán)，有望應(yīng)用于小分子及復(fù)雜生物活性分子中芳基對(duì)甲苯磺酸酯保護(hù)基的后期脫保護(hù)。

參考資料：Photocatalytic Reductive Desulfonation of Aryl Tosylates；Kasmier Vicioso, Jonathan Santoro, Zachary Coren, and Rashanique D. Quarels*；J. Org. Chem., 2025 , 90, 16828-16832； https://doi.org/10.1021/acs.joc.5c02061