國芯網(wǎng)[原:中國半導(dǎo)體論壇] 振興國產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)！

隨著人工智能、大數(shù)據(jù)和高性能計算的快速發(fā)展，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正進入新一輪技術(shù)升級周期。先進制程不斷向更小的節(jié)點邁進，芯片結(jié)構(gòu)愈發(fā)復(fù)雜，3D堆疊、Chiplet等新架構(gòu)不斷涌現(xiàn)，這也對晶圓制造的穩(wěn)定性和潔凈度提出了前所未有的要求。

在這樣的背景下，過濾、分離與純化技術(shù)正成為保障芯片制造質(zhì)量的重要基礎(chǔ)能力。從氣體供應(yīng)、光刻膠處理到濕法化學(xué)品管理，再到CMP研磨液控制，過濾技術(shù)貫穿半導(dǎo)體制造的幾乎每一個關(guān)鍵環(huán)節(jié)。任何微小的污染顆粒，都可能在納米級制造過程中被放大，進而影響芯片性能甚至良率。

作為全球過濾、分離與純化解決方案的重要提供者，頗爾公司（Pall Corporation）正在通過技術(shù)創(chuàng)新與本土化布局，為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供更加可靠的解決方案。

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頗爾四大核心解決方案

1.氣體純化解決方案

分子雜質(zhì)已成為晶圓缺陷的重要源頭，惰性氣體、稀有氣體、腐蝕性氣體等氣流中的微量雜質(zhì)，都可能影響后續(xù)工藝的穩(wěn)定性。頗爾氣體純化解決方案，專為去除分子雜質(zhì)而來，可有效濾除水分、氧氣、二氧化碳等多種雜質(zhì)，且不產(chǎn)生二次有害污染。憑借定制化濾材與集成化設(shè)計，實現(xiàn)工藝穩(wěn)定性提升、減少缺陷、降低成本等多重價值，為芯片制造打下純凈的氣體基礎(chǔ)。

2.光刻解決方案

光刻工藝作為芯片制造的 “靈魂環(huán)節(jié)”，晶圓表面的有害顆粒物、凝膠微橋缺陷、金屬污染，以及光刻化學(xué)品不達標等問題，都會直接影響良率。頗爾光刻工藝過濾解決方案，憑借高效攔截的濾膜、優(yōu)化的結(jié)構(gòu)設(shè)計，有效消除各類污染物，避免微泡產(chǎn)生、縮短沖洗時間，同時減少啟動時的化學(xué)品用量，大幅降低晶圓表面缺陷率。更能實現(xiàn)設(shè)備關(guān)閉時間縮短、產(chǎn)率提升的目標，讓光刻工藝更精準、更高效。

3.濕式工藝解決方案

濕式清洗與刻蝕是芯片電路制造的關(guān)鍵步驟，化學(xué)藥水的污染，會引發(fā)蝕刻速率下降、蝕刻不均勻、芯片缺陷增加甚至設(shè)備損壞等一系列問題。頗爾濕式工藝解決方案，精準捕獲各類微小顆粒與污染物，可適配 HF、BOE 等多種稀釋及腐蝕性化學(xué)品，高效控制臨界尺寸顆粒，保持流體高純度，同時將金屬離子析出量控制在低水平，為濕式蝕刻與后續(xù)清洗環(huán)節(jié)提供穩(wěn)定、純凈的化學(xué)環(huán)境，保障蝕刻工藝的一致性與穩(wěn)定性。

4.CMP解決方案

CMP化學(xué)機械拋光是實現(xiàn)晶圓全局平坦化的核心工藝，研磨顆粒團聚、化學(xué)藥劑污染、微生物滋生等問題，都會造成晶圓劃傷、凹坑、拋光速率不均等致命缺陷，一次過濾失誤就可能造成百萬級損失。頗爾CMP工藝過濾解決方案，精準控制漿料顆粒尺寸、形狀與濃度，將大顆粒密度穩(wěn)定在工藝參數(shù)范圍內(nèi)，有效減少各類制程缺陷，提升工藝控制與穩(wěn)定性。同時還能延長過濾器壽命、提高漿料通量、降低漿料供應(yīng)系統(tǒng)維護頻率，在實現(xiàn)原子級平坦化的同時，為企業(yè)降低綜合擁有成本。

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深耕亞太市場：本土化布局與全球協(xié)同

在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)日益重要的背景下，頗爾始終把亞太市場作為戰(zhàn)略重點，特別是在中國和新加坡等地的布局，不僅顯示了頗爾對亞太市場的重視，也反映出其在本土化戰(zhàn)略上的堅定決心。

近年來，頗爾加大了在亞太地區(qū)的投資，進一步加強了本地研發(fā)、生產(chǎn)和供應(yīng)鏈的整合。2022年，頗爾投資1100萬美元，擴展了北京工廠的微電子產(chǎn)品產(chǎn)能，進一步提升了其在亞太地區(qū)的市場響應(yīng)速度。2023年，頗爾在北京亦莊園區(qū)內(nèi)的Gaskleen和Profile II雙過濾器產(chǎn)線正式投產(chǎn)，為中國市場的需求提供了更精準的支持。2024年，頗爾在新加坡建設(shè)了一座先進的制造工廠，進一步強化了其在亞太地區(qū)的供應(yīng)鏈體系。

這一系列投資不僅體現(xiàn)了頗爾在亞太市場深耕的戰(zhàn)略，也推動了本土化技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)品制造。通過在中國和新加坡的本土化生產(chǎn)，頗爾大大提高了供應(yīng)鏈的響應(yīng)速度和市場競爭力，確保能夠靈活應(yīng)對不斷變化的市場需求。

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完善的客戶支持體系：從產(chǎn)品到服務(wù)

頗爾在提供創(chuàng)新技術(shù)解決方案的同時，還建立了全方位的客戶支持體系，幫助客戶解決從生產(chǎn)到維護的全過程中的技術(shù)挑戰(zhàn)。頗爾的SLS（銷售、實驗室、服務(wù)）團隊，憑借其在半導(dǎo)體工藝和過濾技術(shù)方面的深厚積累，能夠為客戶提供專業(yè)的技術(shù)支持。

在產(chǎn)品層面，頗爾的全流程自主研發(fā)和生產(chǎn)能力為客戶提供了高品質(zhì)的保障。通過在北京工廠進行微電子氣體和CMP過濾產(chǎn)品的本土化生產(chǎn)，頗爾不僅提升了供應(yīng)鏈效率，還確保了生產(chǎn)過程中技術(shù)問題的及時解決。

此外，頗爾推出的CIP（客戶改進項目）定制化方案，更是將技術(shù)支持推向了更高水平。在客戶遇到顆粒污染或離子污染問題時，頗爾能夠迅速分析客戶工藝的具體需求，提供專屬的定制解決方案。這種深度的技術(shù)合作，不僅幫助客戶提升了生產(chǎn)良率，還大幅降低了生產(chǎn)成本。

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回望頗爾八十年：傳承與創(chuàng)新

頗爾公司（Pall Corporation）成立于1946年，為過濾技術(shù)領(lǐng)域的先驅(qū)者，憑借八十年積累的技術(shù)經(jīng)驗，不僅在工業(yè)過濾領(lǐng)域取得了領(lǐng)先地位，也為半導(dǎo)體制造行業(yè)的持續(xù)進步提供了堅實的技術(shù)支撐。

自成立以來，頗爾通過不斷的技術(shù)積累和創(chuàng)新，成功推出了一系列領(lǐng)先的過濾技術(shù)和產(chǎn)品，成為全球半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的核心供應(yīng)商之一。在傳承基礎(chǔ)上，頗爾始終保持技術(shù)創(chuàng)新。

無論是傳統(tǒng)的工業(yè)過濾技術(shù)，還是如今的半導(dǎo)體先進制造領(lǐng)域，頗爾都致力于推動過濾精度的不斷突破。憑借長期穩(wěn)定的產(chǎn)品質(zhì)量和全球領(lǐng)先的研發(fā)體系，頗爾在行業(yè)內(nèi)建立了堅實的品牌認知和客戶信任，為未來的持續(xù)發(fā)展奠定了基礎(chǔ)。

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頗爾亮相SEMICON 2026

2026年3月25日-27日，頗爾中國將攜半導(dǎo)體核心解決方案重磅亮相上海新國際博覽中心N4館4471展位，以專業(yè)技術(shù)實力為芯片制造保駕護航，邀您蒞臨這場行業(yè)盛會共話 “芯” 未來！

另外，4月16日頗爾中國還將舉辦一場線上的半導(dǎo)體過濾技術(shù)研討會，與會觀眾可以更加深入地了解到半導(dǎo)體過濾技術(shù)的突破，歡迎大家踴躍報名參與。

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