光刻機，對于中國半導體產業(yè)而言，絕對是所有半導體設備中，最重要的設備，沒有之一。

一是因為光刻機技術門檻高，目前國內自己的水平，離國際水平，相差真的是太遠了，至少10年以上的差距，落后太遠了。

二是因為美國的制裁，讓全球最先進的光刻機，根本無法賣給中國，比如EUV光刻機，甚至連先進的浸潤式DUV光刻機也不行，ASML之前就說過，賣給中國的光刻機，比起賣給西方的光刻機，一般都是有10年技術差距的。

可想而知，光刻機對于中國芯片產業(yè)而言，是多么痛的領悟了，自己落后這么多，還被卡脖子。

另外，還給大家說兩個數(shù)據(jù)，可以更加直觀的知道，目前光刻機對于我們而言，形勢是多么的嚴峻。

第一個數(shù)據(jù)，那就是全球市場，中國光刻機的份額，大約占0.2%。

很多人都知道，目前全球有4大光刻機廠商，分別是ASML、尼康、佳能、上海微電子，從技術來看，其中ASML最強，尼康第二，而佳能和上海微電子似乎差不多。

但是從市場格局來看，卻是天差地別的。如上圖所示，這是機構展示的當前四大廠商的市場格局，可以看到國產光刻機的份額為0.2%，幾乎就是能夠忽略的，另外三家壟斷了100%的市場。

第二個數(shù)據(jù)，則是目前國內光刻機自的自給率，也就是國產光刻機占比，還不到1%。

大家都知道，國產光刻機的市場份額低，但很多人可能沒有想到會這么低，事實上，國產光刻機出貨量也較多的，但更多的主要集中在后道工序上，也就是封測。

封測用的光刻機，國產占比還是不低的，可能超過了30%，但在前道光刻機上，也就是用于芯片制造的光刻機，其比例就低了，還不到1%。

國內晶圓廠們使用的光刻機，幾乎都是找ASML、尼康、佳能這三家買的，找ASML買的更多的是稍高端的一點的光刻機，金額占到80%左右，找日本買的更多的是低端光刻機，金額占到20%左右。

所以說，目前光刻機的形勢，確實是相當嚴峻的，真的是脖子被卡的死死的，所以我們在光刻機這一塊，必須得突破才行。

那么國產光刻機的水平，到底到了哪一步了？

上海微電子的公開資料顯示，我們達到了ArF的水平，顯示的精度是90nm，據(jù)一些網友稱，可以通過多次曝光，達到28nm，這個我就不知道真假了。

但之前曾曝光過一臺氟化氬光刻機，分辨率小于65nm，采用193nm波長的光線，套刻精度小于等于8nm，這個光刻機其實離浸潤式只差一步了，但這一步，也沒有這么容易跨過。

所以接下來，還是繼續(xù)期待國產光刻機的突破的，只要達到浸潤式，情況就會有天差地別的改變了。