大家都知道，在芯片制造過程中，芯片設(shè)備是至關(guān)重要的，且目前美國對中國芯片產(chǎn)業(yè)進(jìn)行打壓，主要也是針對設(shè)備。

比如EUV光刻機(jī)，高端的浸潤式DUV光刻機(jī)，美國都不準(zhǔn)ASML賣給中國，還有涉及到14nm及以下的其它設(shè)備，也同樣不允許國外的企業(yè)賣給中國。

那么問題就來了，這么多芯片設(shè)備，中國最強(qiáng)的是哪一種，最弱的又是哪一種呢？

從目前的情況來看，最強(qiáng)的應(yīng)該是刻蝕機(jī)了，因?yàn)樗辽龠_(dá)到了3nm的水平。

國內(nèi)最強(qiáng)的刻蝕機(jī)廠商，應(yīng)該是中微公司，在全球芯片設(shè)備市場，中微公司目前排在第13位，而在技術(shù)方面，中微公司的水平至少是達(dá)到了3nm，甚至有可能是達(dá)到了2nm。

早在幾年前，中微公司就打入了臺積電的供應(yīng)鏈，說明中微公司的刻蝕機(jī)，是全球領(lǐng)先且可靠的，否則臺積電不會采用它的。

更重要的是，中微公司目前在零部件上，實(shí)現(xiàn)了100%的國產(chǎn)化，根本就不用擔(dān)心國外不供應(yīng)零部件，完全實(shí)現(xiàn)了自主可控。

而最弱的則是光刻機(jī)了，國內(nèi)知名的光刻機(jī)公司是上海微電子，之前公布的光刻機(jī)技術(shù)還只達(dá)到90nm，還屬于ArF光刻機(jī)的范疇，沒有達(dá)到ArFi，也就是浸潤式DUV光刻機(jī)的水平。

如果對照ASML的話，至少落后10年以上，所以光刻機(jī)，應(yīng)該是技術(shù)相當(dāng)最弱的。

這也是為何美國要卡住我們光刻機(jī)的原因，因?yàn)樽约旱膶?shí)在落后太多，脖子一卡一個準(zhǔn)，完全不可能實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代。

我們知道，芯片制造設(shè)備，其實(shí)是遵循木桶理論的，即哪一樣的技術(shù)最弱，那么哪一樣就決定了我們的最強(qiáng)水平。

所以如果我們不能采用進(jìn)口設(shè)備，只能使用國產(chǎn)設(shè)備的話，那么決定國產(chǎn)芯片最高工藝的，并不是刻蝕機(jī)，而是光刻機(jī)。

所以國產(chǎn)芯片設(shè)備，特別是光刻機(jī)，還是非常長的一段路要走，否則很難擺脫被卡脖子的命運(yùn)，你覺得呢？