近日，據(jù)臺媒《聯(lián)合報》報道，針對日本半導體設備大廠Tokyo Electron（TEL）工程師陳力銘及臺積電工程師涉嫌泄漏臺積電2nm關鍵技術一案，中國臺灣高檢署在最新的調查當中發(fā)現(xiàn)，臺積電另外一名陳姓員工也有竊取核心技術給陳力銘，且TEL盧姓員工也有毀滅證據(jù)行為，因此對這2人及TEL追加起訴。

根據(jù)此前調查顯示，臺積電離職工程師陳力銘轉投至TEL公司擔任行銷及產品經理，疑因害怕“掉單”以及改善機臺表現(xiàn)良率等原因，從2023年8月起至2025年5月，找上過往臺積電同事吳秉駿及戈一平幫忙，以筆記本電腦遠程登入臺積電系統(tǒng)后，持手機偷拍臺積電制程或實驗結果等機密資料共四次，事后將部分機密輸入工作日志回報TEL。

2025年8月底，臺灣智慧財產檢察分署起訴陳力銘、吳秉駿、戈一平三人，認定三人竊取臺積電核心關鍵技術營業(yè)秘密，涉犯營業(yè)秘密法、安全法等罪嫌，各請求判處有期徒刑14年、9年、7年。

隨后在2025年12月，高檢署認定TEL公司也涉嫌犯安全法等四罪責，所以追加起訴TEL，分別求處罰金新臺幣4,000萬元、800萬元、4,000萬元、4,000萬元，并請定罰金新臺幣1.2億元。

最新披露的起訴書指出，檢方在偵辦此案期間，陳力銘在偵查中坦承犯行，主動供出共犯——陳姓臺積電員工，因此請求判處有期徒刑降至7年，如法院認為符合臺灣安全法減輕其刑規(guī)定，建請依法減刑。

高檢署2025年11月10日，指揮調查局新竹市調查站，前往云林、臺南搜索陳姓員工住居所，向法院申請羈押禁見獲批準。但是陳姓員工被捕后態(tài)度欠佳，請求判處有期徒刑8年8月。

盧姓員工在得知被告陳力銘遭臺積電發(fā)覺犯罪行為后，企圖推卸責任，刪除了陳力銘上傳的相關檔案，有妨害刑事案件調查的行為，且被捕后否認犯案，請判處1年有期徒刑。

TEL公司于本案查證過程中，均按檢察官要求提供相關事證，配合調查，對厘清案情尚有助益，因此請求將處罰金額降至新臺幣2500萬元。

此外，高檢署指出，檢察官在偵辦期間，為厘清TEL公司是否符合臺灣安全法第8條第7項所稱“盡力為防止行為”的要件，發(fā)現(xiàn)該公司于云端硬盤內，尚存有臺積電核心關鍵技術項“項次19”，也就是“14nm以下制程之IC制造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術”等營業(yè)秘密資料，清查后發(fā)現(xiàn)正是陳姓員工所竊取。

編輯：芯智訊-林子