導(dǎo)讀：國內(nèi)芯片光刻膠，70%以上依賴日本，外媒：“卡脖子”的隱憂來了

在芯片制造的精密世界里，半導(dǎo)體設(shè)備與材料猶如鳥之雙翼、車之兩輪，缺一不可。設(shè)備是打造芯片的“巧匠之具”，而材料則是構(gòu)筑芯片的“基石原料”。然而，當(dāng)下中國芯片產(chǎn)業(yè)在材料領(lǐng)域正面臨著嚴(yán)峻挑戰(zhàn)，尤其是光刻膠這一關(guān)鍵材料，國產(chǎn)化率極低，高度依賴日本進(jìn)口，形勢(shì)岌岌可危，成為制約中國芯片產(chǎn)業(yè)自主發(fā)展的“卡脖子”難題。

光刻膠：芯片制造的“隱形冠軍”

半導(dǎo)體材料種類繁多，在芯片制造的價(jià)值占比中各有千秋。硅片以33%的占比位居首位，特種氣體占14%，光掩膜占13%，光刻膠輔助材料和CMP拋光材料均占7%。而光刻膠，雖在價(jià)值占比上并非最突出，卻在芯片制造流程中扮演著舉足輕重的角色。它是圖形轉(zhuǎn)移的“魔法畫筆”，通過光化學(xué)反應(yīng)，將精細(xì)的電路圖案精準(zhǔn)地復(fù)制到硅片上，其質(zhì)量直接決定了芯片的集成度和性能。從微小的邏輯芯片到復(fù)雜的存儲(chǔ)芯片，從智能手機(jī)到超級(jí)計(jì)算機(jī)，無一能離開光刻膠的助力。

國產(chǎn)化率低，依賴日本進(jìn)口的困境

然而，中國在光刻膠領(lǐng)域的發(fā)展卻不盡如人意。整體半導(dǎo)體材料的國產(chǎn)化率低于20%，而光刻膠的國產(chǎn)化率更是低至10%左右。更為嚴(yán)峻的是，超過70%的光刻膠依賴日本進(jìn)口。權(quán)威機(jī)構(gòu)電子信息產(chǎn)業(yè)網(wǎng)的數(shù)據(jù)顯示，日本在全球光刻膠市場(chǎng)的份額高達(dá)72%，在EUV光刻膠這一高端領(lǐng)域，占比更是超過95%，幾乎形成壟斷之勢(shì)。中國目前能夠自主生產(chǎn)的光刻膠還處于ArF階段，且是相對(duì)低端的65 - 40nm工藝，對(duì)于更先進(jìn)的工藝則無能為力，EUV光刻膠更是處于技術(shù)空白狀態(tài)。這種高度依賴進(jìn)口的局面，就像在芯片產(chǎn)業(yè)的咽喉上懸了一把利刃，一旦國際形勢(shì)發(fā)生變化，供應(yīng)受阻，中國芯片產(chǎn)業(yè)將面臨癱瘓的風(fēng)險(xiǎn)。

落后原因：起步晚與投入難的雙重困境

中國光刻膠產(chǎn)業(yè)落后日本如此之多，原因是多方面的。從技術(shù)層面看，光刻膠是化學(xué)制劑，由感光樹脂、光引發(fā)劑、溶劑三種主要成分組成，其研發(fā)涉及復(fù)雜的化學(xué)工藝和精密的材料科學(xué)。每一個(gè)環(huán)節(jié)都需要海量的研發(fā)資金和長(zhǎng)期的技術(shù)積累。日本在光刻膠領(lǐng)域起步早，經(jīng)過數(shù)十年的發(fā)展，已經(jīng)建立了完善的技術(shù)體系和產(chǎn)業(yè)生態(tài)，積累了豐富的經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)專利。他們只需按部就班地進(jìn)行技術(shù)升級(jí)和產(chǎn)品迭代，就能保持領(lǐng)先優(yōu)勢(shì)。

相比之下，中國在光刻膠領(lǐng)域起步較晚，基礎(chǔ)薄弱。后期追趕時(shí)，面臨著投入與產(chǎn)出的兩難困境。一方面，光刻膠研發(fā)需要大量的資金投入，從實(shí)驗(yàn)室研究到中試放大，再到產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)，每一個(gè)階段都需要巨額的資金支持。而且，研發(fā)周期長(zhǎng)，風(fēng)險(xiǎn)高，短期內(nèi)很難看到經(jīng)濟(jì)效益。另一方面，由于整個(gè)行業(yè)規(guī)模相對(duì)較小，市場(chǎng)需求有限，如果投入過大，企業(yè)可能面臨虧損；而投入不足，又難以取得研發(fā)成果，無法突破技術(shù)瓶頸。這種尷尬的局面，使得中國光刻膠產(chǎn)業(yè)在追趕的道路上舉步維艱。

破局之路：政策支持、企業(yè)創(chuàng)新與人才培養(yǎng)

面對(duì)光刻膠之困，中國芯片產(chǎn)業(yè)必須尋求破局之路。應(yīng)加大對(duì)光刻膠產(chǎn)業(yè)的支持力度，設(shè)立專項(xiàng)研發(fā)基金，鼓勵(lì)企業(yè)加大研發(fā)投入，降低企業(yè)的研發(fā)風(fēng)險(xiǎn)和成本。同時(shí)，引導(dǎo)資源向光刻膠領(lǐng)域集聚，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)集群發(fā)展，形成良好的產(chǎn)業(yè)生態(tài)。

企業(yè)要增強(qiáng)自主創(chuàng)新意識(shí)，加大研發(fā)投入，加強(qiáng)與高校、科研機(jī)構(gòu)的合作，建立產(chǎn)學(xué)研用深度融合的創(chuàng)新體系。通過引進(jìn)和培養(yǎng)高端人才，提升企業(yè)的技術(shù)水平和創(chuàng)新能力，加快光刻膠技術(shù)的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程。

此外，人才培養(yǎng)也是關(guān)鍵。高校和職業(yè)院校應(yīng)加強(qiáng)相關(guān)專業(yè)的建設(shè)，培養(yǎng)一批既懂化學(xué)又懂半導(dǎo)體技術(shù)的復(fù)合型人才。同時(shí)，企業(yè)要建立完善的人才培養(yǎng)和激勵(lì)機(jī)制，吸引和留住人才，為光刻膠產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供堅(jiān)實(shí)的人才保障。

光刻膠之困是中國芯片產(chǎn)業(yè)必須跨越的一道坎。只有突破光刻膠的技術(shù)瓶頸，實(shí)現(xiàn)自主可控，中國芯片產(chǎn)業(yè)才能真正擺脫受制于人的局面，在全球芯片競(jìng)爭(zhēng)中占據(jù)一席之地。