EDA工具被視為芯片之母，因為如今的芯片都高度復(fù)雜，在設(shè)計方面早已引入EDA工具對芯片進行設(shè)計；芯片代工企業(yè)如臺積電等也是依賴EDA工具提供的數(shù)據(jù)對芯片進行生產(chǎn)，因此EDA工具對于芯片的重要性不言而喻。

美國企業(yè)則壟斷著EDA工具，全球前兩大EDA工具企業(yè)分別是美國的新思科技、Cadence，第三大企業(yè)則是西門子EDA，而西門子EDA其實當(dāng)初也是收購美國企業(yè)而來，他們合計占有EDA市場超過八成的市場份額。

但是幾年前，美國卻限制中國一些企業(yè)以及研發(fā)機構(gòu)使用EDA，由此中國芯片行業(yè)認識到美國諸多技術(shù)都不可靠，說不讓用就不讓用，誰知下一個是不是支持，由此國產(chǎn)芯片企業(yè)紛紛以國產(chǎn)的EDA工具替代。

經(jīng)過數(shù)年的努力，國產(chǎn)EDA工具逐漸獲得認可，甚至連臺積電也開始采用中國大陸的EDA工具，凸顯出國產(chǎn)EDA工具在快速替代美國的EDA工具，這正不斷推動著中國EDA工具的技術(shù)發(fā)展，讓美國的EDA企業(yè)蒙受了巨額的損失。

日前新思科技公布的收入就顯示中國市場為它貢獻的收入比例已從高峰期的20%下滑至15%，Cadence從中國市場獲取的收入比例則從15%跌至10%以下，印證了中國芯片EDA工具確實在替代這些美國的EDA工具。

這幾年在美國的壓力下，中國芯片產(chǎn)業(yè)鏈都在快速發(fā)展，加速完善，在諸多方面都以國產(chǎn)芯片設(shè)備、國產(chǎn)材料替代，除了EDA工具之外，光刻膠、刻蝕機、晶圓等都取得了長足的進展，增強了國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)的自主研發(fā)實力。

今年下半年國內(nèi)一家存儲芯片企業(yè)就傳出已建成了一條完全采用國產(chǎn)芯片設(shè)備的生產(chǎn)線，之前它曾因美國的影響而導(dǎo)致已采購的ASML光刻機在使用中面臨一些問題，凸顯出中國芯片產(chǎn)業(yè)鏈的完善速度快得驚人。

當(dāng)然存儲芯片能完全采用國產(chǎn)芯片設(shè)備，在于存儲芯片考慮到可靠性等問題而一直在10納米以上工藝，而國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈恰恰能提供這樣的設(shè)備，由此實現(xiàn)了全國產(chǎn)化的芯片生產(chǎn)線，這也推動了國產(chǎn)芯片設(shè)備企業(yè)的收入連連實現(xiàn)高速增長。

針對難以獲得EUV光刻機這個難題，中國芯片制造企業(yè)則創(chuàng)造性地開發(fā)出多重曝光技術(shù)，用現(xiàn)有的光刻機生產(chǎn)出接近7納米的工藝，知名的浸潤式光刻機之父林本堅認為中國芯片行業(yè)甚至能依靠現(xiàn)有的浸潤式光刻機開發(fā)出接近5納米的工藝，而中國芯片行業(yè)也在朝著這樣的方向努力。

中國芯片行業(yè)正在將美國的壓力變成動力，加速推進技術(shù)研發(fā)，而獲得更多的收入也確實助推了技術(shù)研發(fā)進程，由此各方面的技術(shù)都在快速突破，包括美國企業(yè)在內(nèi)的諸多西方芯片設(shè)備企業(yè)則因此蒙受了巨額的損失，美國恐怕沒有想到它遏制中國發(fā)展先進芯片的圖謀非但沒能實現(xiàn)，還加速了中國芯片產(chǎn)業(yè)的技術(shù)升級，造成搬起石頭砸自己的腳的后果。