特朗普登上專機前，美國議員提出法案針對中國半導體，此舉會帶來哪些影響？

由于中東局勢的持續(xù)緊張，特朗普把自己的訪華之行從3月21推遲到了5月14日。而在這個間隙中，美國也沒有放松對中國的打壓。在關稅武器失效之后，他們又把目光瞄準了科技封鎖這個方向。

4月3日，美國媒體報道稱，美國兩黨國會議員已經(jīng)聯(lián)合提出一項名為《MATCH Act》的法案。該法案由美國眾議院所謂的“中國問題特別委員會”主席約翰·穆勒納爾領銜提出。

其核心內(nèi)容就是進一步收緊中國半導體企業(yè)獲得關鍵設備的渠道，除了對華銷售相關設備受到限制之外，相關設備后續(xù)的維護服務以及技術支持也將納入管制范圍之內(nèi)。

更重要的是，美國這一法案的效力并不局限在本國境內(nèi)，還涵蓋了美國的那些盟友們。法案中提到，美國的盟友們必須在150天之內(nèi)加強對華出口的監(jiān)管，而且監(jiān)管力度必須向美國看齊，如果做不到這一點，那么美國商務部將“有權”對此采取強制措施。

其實美國出臺這一法案，瞄準的就是荷蘭光刻機巨頭ASML和中國之間的合作，因為在這一領域，中美兩國之間的企業(yè)根本沒什么合作，所以美國國會議員提出這個法案，就是不折不扣的長臂管轄。

而從目前報道的消息來看，這次法案主要針對的對象是ASML的浸潤式深紫外光刻機（浸潤式DUV）。在此之前，美國已經(jīng)通過施壓要求讓ASML停止對中國提供極紫外光刻機（EUV）。如果說限制中國獲得EUV，是在扼殺中國制造高端芯片的能力的話，那么這次把限制目光瞄準浸潤式 DUV 光刻機，就是要對我國芯片產(chǎn)業(yè)的基本盤進行圍剿。

因為EUV光刻機主要是用于制作7nm以下的高端芯片，中方在這一領域的技術還在不斷地摸索中，尤其是2nm、3nm等高端制程的芯片，中方暫時還難以量產(chǎn)，所以EUV光刻機的限制，對中國雖然的半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展雖然有影響，但是影響卻也十分有限。

但是DUV的主要工藝節(jié)點是28nm及以上的成熟制程，該領域是中國芯片產(chǎn)業(yè)的主力，2025年，在28nm及以上芯片這個領域，中國的產(chǎn)能占到了全球產(chǎn)能的33%。預計到2028年，中國在22nm-40nm這個領域產(chǎn)能在全球的占比能夠達到42%。

而這個時候?qū)χ袊M口DUV進行管制，無異于是給中國高速發(fā)展的芯片業(yè)踩下了一腳剎車。如果中國的芯片企業(yè)在其主力產(chǎn)品的制造上遭遇“狙擊”的話，那么必然會造成一連串的連鎖反應，比如營收下降進而導致難以投入更多的資金到技術和工藝的研發(fā)中，又比如訂單的交付能力受到影響，對同下游廠商的合作產(chǎn)生影響，而這些最終都將對中國的半導體產(chǎn)業(yè)帶來沖擊。

那么受到?jīng)_擊的僅僅是中國嗎？恐怕并不是這樣，ASML同樣也是這一法案的受害者。據(jù)相關機構統(tǒng)計，在2025年中國市場貢獻了ASML三分之一的營收，是其在全球最大的市場，其份額遠遠領先于日韓、美國以及中國臺灣等市場。

如果該法案最終通過，那么其在全球的經(jīng)營必然會受到嚴重的影響，中國市場營收在其全球營收中的占比可能會跌到20%甚至更低，美國這完全是在拿盟友的利益為自己服務。

不過對于美國的這種單邊霸凌措施，荷蘭政府也是敢怒而不敢言。荷蘭外交部門發(fā)言人在談到相關問題時表示，對其他國家的政策不予評論。

這看上去是一副“不便評論”的外交辭令，但又何嘗不是對美國的暗諷。既然連評論其他國家的政策都屬于越界，那么對其他國家公司經(jīng)營橫加干涉的行為又是什么呢？

眼下中美貿(mào)易戰(zhàn)的硝煙尚未散盡，科技領域的博弈卻又進入白熱化階段。美國試圖以所謂“國家安全”為幌子，遏制中國發(fā)展。這種將科技問題政治化、工具化的做法，不僅嚴重破壞了全球半導體產(chǎn)業(yè)的供應鏈穩(wěn)定和公平競爭的市場環(huán)境，也暴露了其霸權主義的本質(zhì)。

而美國這么做的目的也絕不只是遏制中國在半導體產(chǎn)業(yè)上的發(fā)展，更是要通過掐斷DUV光刻機這一“糧草”，從源頭上削弱中國在人工智能、智能機器人等領域的技術突破，維護自己的科技霸權，說到底還是單邊主義那一套落后的手段而已。