前沿導(dǎo)讀

在我國發(fā)布的十五五規(guī)劃當(dāng)中，重點提到了中國科技產(chǎn)業(yè)的自立自強，要“采取超常規(guī)措施”，全鏈條推動集成電路、工業(yè)母機等重點領(lǐng)域關(guān)鍵核心技術(shù)攻關(guān)取得決定性突破。

針對“采取超常規(guī)措施”這個概念，飛騰公司副總經(jīng)理郭御風(fēng)先生對此解釋稱：

這并非意味著要違背科學(xué)規(guī)律去“大干快上”，其核心要義在于打破常規(guī)的路徑依賴和體制機制障礙。過去我們處于“跟跑”階段，目標(biāo)是追趕，可以沿著別人的腳印走。但現(xiàn)在我們要邁向“并跑”甚至“領(lǐng)跑”，前方?jīng)]有現(xiàn)成的路，就必須運用非常之法，去行非常之事。

參考資料：
如何理解“采取超常規(guī)措施”加快核心技術(shù)攻關(guān)？政協(xié)委員解答

• https://www.guancha.cn/economy/2026_03_07_809148.shtml

多路并進

郭御風(fēng)先生還進一步闡釋了“全鏈條推動”這個概念，芯片做出來了，沒有配套的操作系統(tǒng)，芯片就沒辦法發(fā)揮作用，成為了孤島。操作系統(tǒng)有了，沒有上層的控制軟件，操作系統(tǒng)只是一個空殼。全鏈條的核心主旨就是要求產(chǎn)業(yè)生態(tài)的協(xié)同創(chuàng)新高，而非單一技術(shù)的點狀突破。

據(jù)《學(xué)習(xí)時報》發(fā)布的權(quán)威資料顯示，集成電路是數(shù)字化時代的“糧食”和“大腦”，其整體發(fā)展需要依賴于先進材料、高端設(shè)備、工業(yè)母機、EDA工具等多種技術(shù)的深度融合。

EDA是設(shè)計芯片的自動化軟件工具，硅片、光刻膠等材料是制造芯片必要的基礎(chǔ)材料，光刻機、刻蝕機、測量機是制造芯片的核心設(shè)備，而超精密機床則是為相關(guān)制造設(shè)備加工必要的零部件。這種涉及到全局性、牽一發(fā)動全身的產(chǎn)業(yè)鏈問題，是我們解決卡脖子的核心難題。

核心技術(shù)的自主化攻關(guān)，直面的問題就是外國企業(yè)的技術(shù)專利。在制造設(shè)備領(lǐng)域，技術(shù)專利就如同四面密不透風(fēng)的城墻，牢牢把核心技術(shù)封鎖在城內(nèi)。除非對方向你主動開放城門（技術(shù)授權(quán)），否則我們必須要想辦法繞過這座城池。

為提升技術(shù)突破的成功率，我們選擇多路并進的方法來實施“超常規(guī)措施”。

針對對明確的技術(shù)難題，公開發(fā)榜，不限團隊背景“揭榜掛帥”，同時支持3——5個不同技術(shù)路線的團隊并行攻關(guān)，在競爭中優(yōu)選最優(yōu)解。

參考資料：
「鏈接」

• https://mp.weixin.qq.com/s?__biz=MzAwMjExNDU1Mw==&mid=2650649305&idx=1&sn=f5de84bae3e41815c038516d01734fec&chksm=83b55eca37915cd395b2ac44b2612f50759364d708459d1c16fe36168ff6954a0adf01e5fdf8&scene=27

這種同時發(fā)展多個技術(shù)項目的方法，也是西方企業(yè)在半導(dǎo)體領(lǐng)域發(fā)展壯大的原因之一。

英特爾依靠存儲芯片發(fā)家致富，在繼續(xù)發(fā)展存儲芯片的同時還布局通用CPU產(chǎn)業(yè)。隨后英特爾遭到了來自于日本企業(yè)低價存儲芯片的沖擊，其存儲業(yè)務(wù)遭到重創(chuàng)，經(jīng)濟下滑嚴重，甚至面臨倒閉的風(fēng)險。

時任英特爾CEO的格魯夫選擇砍掉存儲芯片項目，放棄與日本企業(yè)在該領(lǐng)域進行競爭，全面研發(fā)通用CPU技術(shù)。雖然英特爾失去了最初發(fā)家致富的存儲器，但是通用CPU項目讓英特爾在后來成為了該領(lǐng)域的市場霸主。

擇優(yōu)劣汰

再拿光刻機產(chǎn)業(yè)舉例，如今還在研發(fā)光刻機的國家只剩下荷蘭、日本、中國這三國的企業(yè)。

荷蘭的ASML擁有先進光刻機的統(tǒng)治權(quán)，以浸潤式技術(shù)和LPP—EUV技術(shù)領(lǐng)先全球。日本則是尼康和佳能兩家光刻機企業(yè)，尼康持有ArF浸潤式以及KrF干式技術(shù)光刻機，但是較ASML的設(shè)備技術(shù)落后明顯。佳能持有KrF光刻機以及先進的納米壓印光刻機，其重點目標(biāo)都放在了納米壓印領(lǐng)域。

而中國的光刻技術(shù)團隊則是對多個技術(shù)方法同步進行攻堅，在多個方法中找尋一條合適的路線。

根據(jù)檢索到的官方權(quán)威信息顯示，哈爾濱工業(yè)大學(xué)主導(dǎo)DPP—EUV技術(shù)、中科院上海光機所主導(dǎo)與ASML一樣的LPP—EUV技術(shù)、杭州璞璘科技主導(dǎo)與日本佳能一樣的納米壓印技術(shù)、中科院研究團隊正在嘗試雙激光束技術(shù)、清華大學(xué)正在嘗試穩(wěn)態(tài)微聚束技術(shù)（SSMB）。

參考資料：
哈工大兩項目獲黑龍江省高校和科研院所職工科技創(chuàng)新成果轉(zhuǎn)化大賽一等獎
工研閃報 | 國內(nèi)光刻光源專利“冒尖”，LPP-EUV路線外再辟新思路 - 研究院要聞 - 武漢光電工業(yè)技術(shù)研究院
清華團隊發(fā)Nature，新一代加速器光源亮相-清華大學(xué)
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這種多路并進的方法雖然技術(shù)壓力較大，而且現(xiàn)在大多處于測試階段，甚至還有可能會失敗。但是這種擇優(yōu)劣汰的方法，可以最大限度提升我國突破封鎖的成功率。

考慮到后續(xù)的市場發(fā)展，我國也提出了以政企單位作為“領(lǐng)先用戶”，直接采購尚未完全成熟但具備重大戰(zhàn)略意義的產(chǎn)品和服務(wù)，幫助產(chǎn)品快速迭代。

先把國產(chǎn)的東西用起來，在用的過程中找到需要優(yōu)化解決的問題，然后聯(lián)合設(shè)計商以及制造商共同解決問題，一點點提升國產(chǎn)設(shè)備的技術(shù)競爭力。