文/王新喜

中國自主光刻機走到哪一步了，是全世界都很好奇的一件事。最近一家荷蘭科技媒體突然發(fā)了篇報道，標題直接點名主旨——中國囤積的光刻機，哪怕接下來甚至完全不買，用個5到10年都完全不是問題。這篇報道釋放的信號，就是中國光刻機依然依賴ASML，國產(chǎn)光刻機仍任重道遠。

全球的芯片的大規(guī)模量產(chǎn)，是依賴光刻機這種芯片制造基礎(chǔ)設(shè)備，全球只有4家廠商，荷蘭ASML是全球光刻技術(shù)的領(lǐng)導者，一家壟斷全球80%以上市場，最先進的EUV光刻機，只有它一家能夠生產(chǎn)，獨家壟斷了100%市場份額，要造7nm及以下芯片制造，都離不開它的EUV。

而中國的水平落后ASML至少是10年以上，所以過去中國一直大量從ASML進口光刻機。

為了不讓中國制造出先進的芯片，美國先是不讓ASML的EUV光刻機向中國出口，后來連浸潤式DUV里的高端型號也開始設(shè)限。按照ASML那邊被迫執(zhí)行的說法，能賣給中國的產(chǎn)品，技術(shù)上得落后個一代甚至更多。

那么即便在這種情況下，根據(jù)荷蘭媒體報道，在2023年、2024年這兩年，中國一直是ASML的最大買家，中國最高時購買的光刻機金額，占到了ASML的40%以上，這兩年購買的光刻機，比以往5年還要多。

事實上，荷蘭ASML近期的財報也佐證了這點。近日，ASML發(fā)布了2025年四季度，以及全年的業(yè)績報告。2025年這一年，ASML營收高達327億歐元，同比增長16%，而凈利潤高達96億歐元，同比增長27%。

數(shù)據(jù)顯示，一季度ASML我光刻系統(tǒng)銷售額是57億歐元，中國占比27%。二季度是56億歐元銷售額，中國占比25%。三季度是56億歐元銷售額，中國占比42%，四季度是76億歐元銷售額，中國占比36%。

算下來，2025年，ASML327億歐元總收入中，賣光刻機的收入合計為245億歐元左右，而中國買走的光刻機金額高達80.1億歐元，合計占到所有光刻機銷售的33%。

從占比來看，中國大陸依然是ASML光刻機的最大買家，沒有之一，這個比例超過了中國臺灣，韓國、美國等市場。并且在2025年，中國購買的光刻機雖然數(shù)量減少了，均價明顯提升，說明購買的更多聚焦在高端一點的浸潤式光刻機上面。

目前中國已經(jīng)囤積了足夠多的浸潤式光刻機，而這些浸潤式光刻機，在采用多重曝光之后，實際上能制造的芯片，能達到5nm工藝了。

那么從中國大規(guī)模囤購ASML光刻機來看，背后透露了幾個事實與真相。

其一，目前中國光刻機依然在艱難突圍，依然需要時間。從囤購的光刻機數(shù)量來看，也就是說預留了5~10年時間來突破光刻機的關(guān)鍵技術(shù)，為接下來可能的持久戰(zhàn)囤積糧草。加上目前正在大規(guī)模的建芯片工廠，提高芯片產(chǎn)能，而ASML幾乎是唯一的光刻機選擇。

光刻機它是一個工業(yè)體系的皇冠，尤其是EUV光刻機。ASML的EUV光刻機里有10萬個零件，來自全球5000多家供應(yīng)商，蔡司的鏡頭、美國的電源、德國的機械自動化，這是全球化時代的巔峰產(chǎn)物。

EUV光源、蔡司光學鏡頭和日本的光刻膠，形成了一個穩(wěn)固的“技術(shù)壁壘鐵三角”，目前我們在DUV光刻機的國產(chǎn)化上已經(jīng)取得了突破，但EUV涉及到的極紫外光源、高精度反射鏡系統(tǒng)，確實是擺在面前的硬骨頭。我們國家雖然在部分領(lǐng)域有所突破，但要形成競爭局面，還需要時間。

最重要的是，過去20年里，業(yè)界已經(jīng)基本形成了“晶體管堆料”和“先進制程微縮”的路徑依賴，誰有EUV，誰就有話語權(quán)，中國在芯片產(chǎn)業(yè)的話語權(quán)當前其實相當有限。

其二，從中國大規(guī)模囤購光刻機來看，就是光刻機出口管制這件事情，荷蘭的靈活操作為彼此預留了生意空間。

早在2024年3月，荷蘭首相訪華親自表態(tài)會努力減少出口限制造成的影響。事實上，荷蘭也是這么做的。2024年9月加緊了出口許可規(guī)定，對NXT1980Di之后的DUV設(shè)備實行逐案審批，不過老款和中低端機型還是能照賣不誤。

此外，荷蘭政府在2025年1月專門把大部分ASML對華銷售從“雙重用途”出口數(shù)據(jù)里剔除了，這相當于給公司開了綠燈，讓幾十億歐元的買賣不用公開接受審查。甚至主動構(gòu)建中國本地維修網(wǎng)點，給現(xiàn)有設(shè)備保駕護航，持續(xù)綁定貿(mào)易關(guān)系。

畢竟，荷蘭看的非常清楚，ASML將近一半的飯碗是中國給端著的。這兩年運到中國大陸的光刻機數(shù)量，加起來比過去五年總和還要多。

這就導致一邊美國在那兒喊著要封鎖，一邊是ASML的光刻機在加班加點地往中國運，這說明在美國的制裁下，荷蘭的操作相對靈活，既維持美方的盟友關(guān)系，又給自家企業(yè)留足了生存空間，在“頂住美方壓力”與“穩(wěn)住業(yè)務(wù)”間找到平衡，有錢賺絕不把門關(guān)死。這其實也是中荷在芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展上的一種雙贏。

再次，中國一直在做兩手準備，全力突圍EUV光刻機

值得注意的是，我們已經(jīng)專盯著那些技術(shù)指標更高、還沒被完全禁掉的高端浸潤式光刻機買。這些機器都是硬通貨，每一臺都是未來幾年產(chǎn)線上的頂梁柱。雖然它不如EUV那么先進，但在“多重曝光”領(lǐng)域有大用，通過復雜的工藝疊加，照樣能刻出精細的電路圖，實現(xiàn)5納米的芯片突圍。

尤其是中國在先進封裝技術(shù)層面已經(jīng)取得領(lǐng)先，通過2.5D/3D堆疊、異構(gòu)集成等方式，將兩塊甚至多塊芯片通過封裝一體化，能解決很多意想不到的問題。

我們囤購5到10年的光刻機，本質(zhì)是爭取國產(chǎn)突圍的寶貴時間與做最壞的打算！在未來5~10年，哪怕西方徹底斷供，手里的DUV能頂?shù)?nm，中國晶圓廠照樣能轉(zhuǎn)，芯片照樣能生產(chǎn)，我們有時間慢慢磨EUV。

在當下，國產(chǎn)替代的訴求比以往任何時刻都要更強烈。去年去年曝光的氟化氬光刻機，是ArF光刻機，接下來要突破的是浸潤式DUV，再然后就是EUV。

此外，中國在光刻機技術(shù)還在推進納米壓印與電子光束多條路線并行研發(fā)。最終實現(xiàn)國產(chǎn)光刻機的完整突圍，這需要一個較長的時間周期。

目前，荷蘭的一位芯片專家拋出了一個新的判斷，他認為，中國大概需要10年左右的時間，才能真正造出屬于自己的「EUV光刻機」，并且達到ASML目前的同等技術(shù)水準。

在西方科技圈內(nèi)部，過去一直是看低中國速度的，在很早的時候認為中國就算是拿了圖紙也造不出來，后來他們說我們20年也追不上，后來改口說15年，現(xiàn)在變成了10年，中國可以造出EUV光刻機，那就是意味著他們正在重新評估中國芯片的「突圍速度」。

在科技競爭的維度里，10年就是一個完整的產(chǎn)業(yè)周期。第一個3年是從無到有的原理突破。第二個3年是核心零部件的攻堅戰(zhàn)，最后的4年，是整體設(shè)備的集成與迭代、優(yōu)化產(chǎn)品良率，是在工廠里不斷燒錢、最終打磨出高良率的芯片產(chǎn)品。

只不過，這個過程，注定是漫長而艱難的。畢竟這是中國以一己之力，對抗整個西方成熟的供應(yīng)鏈體系，這不是一蹴而就的，而是需要長周期的研發(fā)與坐冷板凳，最終走到天亮的那一天。

只要中國努力提高芯片產(chǎn)能的決心沒變，中國自己的光刻機還不能頂上來，那么就得繼續(xù)囤貨，國產(chǎn)光刻機替代技術(shù)的成熟，到底走到了哪一步，這其實能從我們購買ASML光刻機的數(shù)據(jù)看出來。當我們采購金額與占比越來越低的時候，這可能意味著我們國產(chǎn)光刻機的本土產(chǎn)品已經(jīng)在替代一部分光刻機產(chǎn)能了。

從當前荷蘭媒體的爆料來看，國產(chǎn)光刻機依然還要努力。我們當前依然處于黎明前的黑暗，整個行業(yè)還在咬緊牙關(guān)往前走，在瘋狂囤貨、優(yōu)化工藝，在解決芯片零部件自主與產(chǎn)業(yè)門類上不斷推進，在產(chǎn)品創(chuàng)新和商業(yè)模式創(chuàng)新角度去推進研發(fā)，一旦實現(xiàn)EUV光刻機的量產(chǎn)，整個世界的格局都會發(fā)生重大轉(zhuǎn)變，只不過在此之前，國產(chǎn)光刻機的突圍依然任重道遠。