關(guān)于舉辦第二十期中國(guó)表面工程云論壇的通知

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組織機(jī)構(gòu)

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論壇時(shí)間

2025年12月5日19:30~21:10

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參會(huì)方式

可通過(guò)以下方式線上參會(huì)

1、微信視頻號(hào)（可點(diǎn)擊下方小程序進(jìn)行預(yù)約）

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3、九州云播鏈接：

04

相關(guān)費(fèi)用

論壇免收注冊(cè)費(fèi)

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特邀報(bào)告

報(bào)告專家

江亮 ， 西南交通大學(xué)研究員、博士生導(dǎo)師，入選國(guó)家級(jí)青年人才、中國(guó)科協(xié)青年托舉，主要從事原子級(jí)拋光研究。以第一/通訊作者發(fā)表SCI論文55篇；以第一發(fā)明人授權(quán)中國(guó)發(fā)明專利17項(xiàng)、美國(guó)發(fā)明專利1項(xiàng)。榮獲教育部自然科學(xué)一等獎(jiǎng)（排名4/8）、浙江省科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)（排名8/12）、上銀優(yōu)秀機(jī)械博士論文佳作獎(jiǎng)。

報(bào)告時(shí)間

2025年12月5日 19：30-19：55

報(bào)告題目

銅化學(xué)機(jī)械拋光原子級(jí)材料去除機(jī)理研究

內(nèi)容摘要

銅化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）對(duì)芯片互連制造至關(guān)重要。本研究通過(guò)液下原子力顯微鏡（AFM）模擬CMP，研究SiO2磨粒與銅表面的微觀相互作用。在弱氧化條件下，SiO2磨粒與Cu2O之間產(chǎn)生高摩擦，生成的局部摩擦熱可能會(huì)影響化學(xué)反應(yīng)的均勻性，進(jìn)而惡化表面質(zhì)量；同時(shí)，去除的Cu2O會(huì)吸附在SiO2磨粒上，進(jìn)而造成微劃痕。因此，建議采用強(qiáng)氧化作用。在強(qiáng)氧化條件下，機(jī)械作用對(duì)化學(xué)反應(yīng)的影響較小，材料去除可以分為兩個(gè)相對(duì)獨(dú)立的階段：首先，形成CuO鈍化膜作為去除前驅(qū)體，同時(shí)抑制過(guò)度腐蝕；隨后，絡(luò)合作用軟化鈍化膜，在弱機(jī)械作用下實(shí)現(xiàn)材料去除。在此基礎(chǔ)上，利用AFM實(shí)現(xiàn)了銅的原子級(jí)材料去除，統(tǒng)計(jì)結(jié)果顯示平均約六次往復(fù)滑動(dòng)可去除一層銅原子。在機(jī)理指導(dǎo)下，采用CMP實(shí)現(xiàn)了超光滑、近無(wú)損傷的銅表面，其表面粗糙度Sa為0.1 nm（10 μm×10 μm）。

報(bào)告專家

高尚，大連理工大學(xué)教授、博士生導(dǎo)師。擔(dān)任中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)半導(dǎo)體裝備分會(huì)委員、《J. Adv. Manuf. Sci. Technol.》青年編委、《金剛石與磨料磨具工程》編委、《機(jī)械工程學(xué)報(bào)》青年編委等。主持國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃課題、國(guó)家自然基金面上項(xiàng)目等20余項(xiàng)。一作/通訊作者發(fā)表SCI論文60余篇，ESI高被引論文4篇；出版英文專著章節(jié)2部；授權(quán)發(fā)明專利46項(xiàng)。獲教育部技術(shù)發(fā)明一等獎(jiǎng)、中國(guó)機(jī)械工業(yè)科技獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)與二等獎(jiǎng)、河南省科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)。

報(bào)告時(shí)間

2025年12月5日 19：55-20：20

報(bào)告題目

面向晶圓減薄的軟磨料彈性磨拋輪超低損傷加工技術(shù)

內(nèi)容摘要

針對(duì)傳統(tǒng)金剛石砂輪減薄磨削晶圓過(guò)程中，超硬磨粒以純機(jī)械作用方式去除材料產(chǎn)生嚴(yán)重?fù)p傷的難題，報(bào)告提出采用軟磨料彈性磨拋輪、利用機(jī)械化學(xué)復(fù)合作用實(shí)現(xiàn)晶圓超低損傷磨削加工的新工藝。介紹了機(jī)械化學(xué)復(fù)合作用條件下晶圓超低損傷磨削表面的形成機(jī)理，開發(fā)出軟磨料彈性磨拋輪及其加工工藝，實(shí)現(xiàn)晶圓表面粗糙度Ra＜0.5 nm、亞表面損傷深度＜15 nm的超低損傷磨削加工。

報(bào)告專家

程潔，中國(guó)礦業(yè)大學(xué)（北京）教授/博導(dǎo)，中國(guó)科協(xié)第 “青年人才托舉工程”入選者、“溫詩(shī)鑄楓葉獎(jiǎng)-青年學(xué)者獎(jiǎng)”獲得者。從事先進(jìn)集成電路化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)、磨蝕技術(shù)、煤電子制造技術(shù)等。發(fā)表SCI論文60余篇，出版英文專著1部，摩擦學(xué)教材1部。主持國(guó)家自然科學(xué)基金面上/青年項(xiàng)目3項(xiàng)、北京市自然科學(xué)基金面上項(xiàng)目等課題。

報(bào)告時(shí)間

2025年12月5日 20：20-20：45

報(bào)告題目

磨蝕調(diào)控在高效率、原子級(jí)光滑的化學(xué)機(jī)械拋光中的應(yīng)用

內(nèi)容摘要

當(dāng)前亟需開展高端芯片復(fù)雜結(jié)構(gòu)異質(zhì)材料表/界面超高效、原子級(jí)光滑的化學(xué)機(jī)械拋光加工理論和方法前沿性研究。而拋光去除過(guò)程中，高效率和低缺陷的表面加工通常難以兼顧，從摩擦學(xué)角度，其核心科學(xué)問(wèn)題在于對(duì)晶圓表/界面腐蝕、磨損及其交互作用進(jìn)行精準(zhǔn)調(diào)控，以達(dá)到兼顧高效率材料去除和低缺陷表/界面質(zhì)量的加工目標(biāo)。

報(bào)告專家

肖峻峰，華中科技大學(xué)機(jī)械科學(xué)與工程學(xué)院副教授、博士生導(dǎo)師，研究方向?yàn)槊?xì)流動(dòng)、超精密加工，入選湖北省人才計(jì)劃，發(fā)表一作/通訊論文30余篇，授權(quán)發(fā)明專利10余項(xiàng)，獲省部級(jí)科技獎(jiǎng)2項(xiàng)、國(guó)家級(jí)教學(xué)成果獎(jiǎng)1項(xiàng)。

報(bào)告時(shí)間

2025年12月5日 20：45-21：10

報(bào)告題目

單晶硅激光拋光與修復(fù)

內(nèi)容摘要

面向單晶硅光學(xué)元件的超精密切削在表面殘余切削紋、在亞表面引入晶體損傷與缺陷，激光拋光利用毛細(xì)流動(dòng)降低表面粗糙度、誘導(dǎo)硅單晶生長(zhǎng)修復(fù)亞表層損傷，實(shí)現(xiàn)單晶硅的亞納米表面粗糙度、近零亞表層損傷超精密加工。

06

聯(lián)系方式

官方郵箱：

cse1988@csejournal.com

官方微信公眾號(hào)：

中國(guó)表面工程

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關(guān)于中國(guó)表面工程云論壇的介紹

表面工程作為裝備制造業(yè)中四大重要基礎(chǔ)工藝之一，也是提升機(jī)械制造整體水平的核心技術(shù)之一，對(duì)實(shí)現(xiàn)制造強(qiáng)國(guó)戰(zhàn)略具有重要的支撐作用。為助力我國(guó)表面工程學(xué)術(shù)研究的發(fā)展，搭建表面工程領(lǐng)域高水平學(xué)術(shù)交流平臺(tái)，同時(shí)進(jìn)一步加強(qiáng)編輯與科研人員的交流，增進(jìn)科研人員對(duì)期刊的了解，推進(jìn)期刊高質(zhì)量發(fā)展，中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)、中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)表面工程分會(huì)、中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)再制造工程分會(huì)、中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)摩擦學(xué)分會(huì)、中國(guó)電工技術(shù)學(xué)會(huì)電子束離子束專業(yè)委員會(huì)、中國(guó)腐蝕與防護(hù)學(xué)會(huì)磨蝕與防護(hù)技術(shù)專業(yè)委員會(huì)、中國(guó)機(jī)械工程學(xué)會(huì)機(jī)械科技信息分會(huì)共同主辦中國(guó)表面工程云論壇，云論壇每月舉辦一次。

《中國(guó)表面工程》編輯部

2025-12-03

責(zé)任編輯：李 娜

責(zé)任校對(duì)： 金 程

審 核： 張 強(qiáng)

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