雖然如今的日本科技產(chǎn)業(yè)已經(jīng)開始衰落并不復往日的榮光，“工匠精神”也逐漸從褒義詞開始變成貶義詞，同時伴隨著眾多負面新聞而成為大家茶余飯后的笑點和談資。但是在某一些方面上也不得不敬佩日本產(chǎn)業(yè)的韌性。

就像尼康和佳能這兩家光刻機廠商，在遭到《美日半導體協(xié)定》等法案的針對，技術遭到封鎖被排除在EUV LLC聯(lián)盟之外，市場份額從巔峰時期的90%一路下滑到如今僅剩10%，但是依然沒有放棄。蟄伏了十幾年的時間，終于找到機會開始發(fā)動對ASML的反擊。

這項反擊的技術就是NIL（納米壓印技術），傳統(tǒng)的光刻機需要光源系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)、浸沒系統(tǒng)、光柵系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)等等多個系統(tǒng)組成。其中光源系統(tǒng)由于EUV技術已經(jīng)被EUV LLC聯(lián)盟牢牢把持在手中，因此可以說EUV光刻機這條道路已經(jīng)很難走通。

而選擇NIL（納米壓印技術）則可以繞過EUV光源的限制，實現(xiàn)先進制程的芯片制造。NIL（納米壓印技術）簡單理解就是通過將電路板雕刻在特殊的材質(zhì)上，從而像“蓋印章”一樣完成芯片的制造，通過佳能公開的資料顯示，這也確實是一條可行的道路。

技術遭到封鎖，資金嚴重不足，海外市場又遭到針對甚至一度被處以100%的懲罰性關稅。尼康和佳能面對的困境同樣十分巨大，但是如今隨著5nm光刻機的推出，它們終于看到了一絲勝利的曙光。

但是反觀國內(nèi)半導體企業(yè)，不得不一聲嘆息。自2014年推出半導體產(chǎn)業(yè)大基金以來，迄今為止已經(jīng)過去了九年時間，不得不承認確實在芯片制造領域取得了不小的進步，但是在光刻機等真正的基礎研究上卻依然寸步難行，本來預計2020年通過驗收并實現(xiàn)量產(chǎn)的28nm光刻機在延遲了3年之后依然遙遙無期，如光刻膠、光掩膜版、極性溶液、濺射靶材等半導體材料領域同樣進展緩慢。

大量的資金投入了半導體產(chǎn)業(yè)，但是卻換來了不少的殘磚斷瓦，號稱投入200億美元（折合1381億人民幣）的弘芯一片荒蕪，號稱投入598億的泉芯同樣崩盤，其他大大小小無疾而終的半導體企業(yè)更是數(shù)不勝數(shù)，根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計顯示2022年關閉的芯片企業(yè)數(shù)量高達5746家。

錢花出去了不少，但是真正意義上的突破依然屈指可數(shù)。大量沖著補貼加入造芯的企業(yè)匆匆而來又匆匆而去，卻幾乎沒有幾家能夠沉下心來用十年甚至二十年時間來完成一項突破的企業(yè)。量變引起質(zhì)變，很多時候我們需要的并不是一家大包大攬什么都能做的企業(yè)，而是無數(shù)幾十年深耕在單一領域最終取得突破的中小企業(yè)，只有匯集了無數(shù)這樣的力量之后，才能帶來國產(chǎn)半導體行業(yè)的真正崛起。

但現(xiàn)在的問題是所有企業(yè)全部都處于好大喜功的狀態(tài)，你上幾百億，我就必須上千億，在半導體基礎領域尚不牢固的前提下，就渴望一口氣吃一個胖子，結(jié)果最終全部因為種種原因而崩盤。不僅僅浪費了大量本可以用于真正科研的資金，同時也失去了寶貴的時間。

如今佳能的成功，對于國內(nèi)的半導體產(chǎn)業(yè)也是一個警醒——如光刻機這樣高端技術的突破，往往需要的是幾年、十幾年甚至是幾十年的時間。同時既需要如臺積電、高通、英特爾這樣站在臺前的明星企業(yè)，也需要日立高新、東京電子、迪恩士等等這樣在背后默默努力為芯片產(chǎn)業(yè)添磚加瓦的企業(yè)。

科技研發(fā)的道路從來都不會是一帆風順的，相比于成功時剎那的光芒，我們更應該尊重那些在光芒背后默默奉獻的眾多無名企業(yè)。就像佳能找到了一條繞過EUV發(fā)展光刻機的道路一樣，我們的企業(yè)也終將有一天找到一條自己的道路。