目前大規(guī)模的芯片制造下,7nm以下芯片,必須使用EUV光刻機(jī)。
而EUV光刻機(jī),全球只有ASML一家能夠制造,所以像臺(tái)積電、三星、英特爾等等廠商,如果想制造7nm以下芯片,必須找ASML去購(gòu)買。
不過(guò),雖然EUV這么重要,但其實(shí)也有一個(gè)大問(wèn)題,那就是功率太高,能量轉(zhuǎn)換效率太低。
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一臺(tái)EUV光刻機(jī),需要1250KW的電力輸入,但轉(zhuǎn)換后,其光源功率大約為600W,最后輸出功率只有250W,所以生產(chǎn)的芯片大約每小時(shí),只能處理220 片左右。
所以EUV光刻機(jī)是電老虎,ASML一直在努力的想要提高轉(zhuǎn)換效率,提高光源功率,提高最終的輸出功率,以提高芯片生產(chǎn)的速度。
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而近日,ASML表示稱,它們找到了辦法,能夠?qū)UV 光源功率從 600 瓦提升至 1000 瓦,而一旦光源的功率提升了,那么進(jìn)行光刻時(shí),效率就會(huì)提升。
ASML稱,到時(shí)候晶圓處理速度,能夠從現(xiàn)在的220片每小時(shí),提高50%,達(dá)到330片每小時(shí),這樣可以讓晶圓廠采用EUV光刻機(jī)時(shí),制造更多的芯片出來(lái)。
ASML稱,這不是噱頭,這是實(shí)實(shí)在在的技術(shù),到2030年時(shí),他們能穩(wěn)定的讓EUV光刻機(jī)每小時(shí)處理的晶圓產(chǎn)能,提升50%。
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說(shuō)真的,如果EUV真的能夠穩(wěn)定的將光源提升至1000W,然后產(chǎn)能提升50%,對(duì)于整個(gè)芯片行業(yè)而言,將是巨大的利好。
因?yàn)楫a(chǎn)能高了,生產(chǎn)成本就降低了,那么最終生產(chǎn)出來(lái)的芯片價(jià)格就會(huì)下滑,所有需要使用芯片的行業(yè),都會(huì)因此而受益,比如手機(jī)、PC、AI等等。
當(dāng)然,目前ASML只是設(shè)了目標(biāo),表示自己有了這個(gè)能力,但最終還要到2030年才全面實(shí)現(xiàn),中間還有太多的變數(shù),萬(wàn)一到時(shí)候其它技術(shù)顛覆了EUV,也不是不可能的,所以這一切就讓我們拭目以待吧。
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