目前大規(guī)模的芯片制造下，7nm以下芯片，必須使用EUV光刻機(jī)。

而EUV光刻機(jī)，全球只有ASML一家能夠制造，所以像臺(tái)積電、三星、英特爾等等廠商，如果想制造7nm以下芯片，必須找ASML去購(gòu)買。

不過(guò)，雖然EUV這么重要，但其實(shí)也有一個(gè)大問(wèn)題，那就是功率太高，能量轉(zhuǎn)換效率太低。

一臺(tái)EUV光刻機(jī)，需要1250KW的電力輸入，但轉(zhuǎn)換后，其光源功率大約為600W，最后輸出功率只有250W，所以生產(chǎn)的芯片大約每小時(shí)，只能處理220 片左右。

所以EUV光刻機(jī)是電老虎，ASML一直在努力的想要提高轉(zhuǎn)換效率，提高光源功率，提高最終的輸出功率，以提高芯片生產(chǎn)的速度。

而近日，ASML表示稱，它們找到了辦法，能夠?qū)UV 光源功率從 600 瓦提升至 1000 瓦，而一旦光源的功率提升了，那么進(jìn)行光刻時(shí)，效率就會(huì)提升。

ASML稱，到時(shí)候晶圓處理速度，能夠從現(xiàn)在的220片每小時(shí)，提高50%，達(dá)到330片每小時(shí)，這樣可以讓晶圓廠采用EUV光刻機(jī)時(shí)，制造更多的芯片出來(lái)。

ASML稱，這不是噱頭，這是實(shí)實(shí)在在的技術(shù)，到2030年時(shí)，他們能穩(wěn)定的讓EUV光刻機(jī)每小時(shí)處理的晶圓產(chǎn)能，提升50%。

說(shuō)真的，如果EUV真的能夠穩(wěn)定的將光源提升至1000W，然后產(chǎn)能提升50%，對(duì)于整個(gè)芯片行業(yè)而言，將是巨大的利好。

因?yàn)楫a(chǎn)能高了，生產(chǎn)成本就降低了，那么最終生產(chǎn)出來(lái)的芯片價(jià)格就會(huì)下滑，所有需要使用芯片的行業(yè)，都會(huì)因此而受益，比如手機(jī)、PC、AI等等。

當(dāng)然，目前ASML只是設(shè)了目標(biāo)，表示自己有了這個(gè)能力，但最終還要到2030年才全面實(shí)現(xiàn)，中間還有太多的變數(shù)，萬(wàn)一到時(shí)候其它技術(shù)顛覆了EUV，也不是不可能的，所以這一切就讓我們拭目以待吧。