近日，日本公開表示將修訂核心防`務文件，推動軍`事相關產(chǎn)業(yè)發(fā)展，試圖將長期秉持的穩(wěn)健路線進行調(diào)整，轉(zhuǎn)向更具主動性的方向。

相關表態(tài)公布后，迅速作出回應。商務部先是宣布，將加強對日本`軍`民兩用物項的出口管制，涉及上千種材料、設備及技術。日方的反對尚未平息，第二波措施已在24小時內(nèi)迅速跟進，將對原產(chǎn)于日本的二氯二氫硅啟動反傾銷立案調(diào)查。

對此，國內(nèi)部分人士擔心：日本會不會反過來卡我們的光刻膠脖子？畢竟，這是他們最核心的“殺手锏”之一，我們約50%的光刻膠依賴日本進口

光刻膠看起來只是化學工業(yè)中的一種感光材料，卻是半導體制造中的關鍵一環(huán)，其性能決定了電路圖案的精細程度、生產(chǎn)良率與整體制程水平，從而深刻影響性能與成本。

但這一核心環(huán)節(jié)卻長期受制于人。SEMI統(tǒng)計，2024年光刻膠市場規(guī)模已達128億，但國產(chǎn)化率仍低于5%，絕大部分依賴進口。日本則是掌控了全球90%以上的高端光刻膠供應，尤其在關鍵的KrF與ArF光刻膠領域。

這讓日本工程師一度斷言：“沒有日本光刻膠，光刻機就算造出來也是擺設，毫無作用。”

現(xiàn)實印證了這一威脅：自2025年下半年以來，日企已悄然通過延長審批周期、供應配額減少等手段收緊出口，部分高端ArF及EUV光刻膠甚至出現(xiàn)間接停供，被外媒嘲笑為“中方無米下炊”。面對壓力，我們并非坐以待斃。

公開信息顯示，在市場支持、市場拉動與技術創(chuàng)新的共同驅(qū)動下，國內(nèi)光刻膠已逐步實現(xiàn)從樹脂、光敏劑到成品的全鏈條自主化，部分進入國際供應鏈。例如，獲得國內(nèi)首個EUV光刻膠發(fā)明專利，ArF浸沒式已取得訂單；KrF光刻膠在2025年銷售額預計達千萬元級別，良率超過92%

顯然，日本的出口收緊雖在短期內(nèi)加劇了供需緊張，但也進一步推動了國產(chǎn)化進程。從“卡脖”到“自主化”，這場光刻膠的替代之戰(zhàn)，正在進入關鍵階段。

前沿科技領域的持續(xù)突破，無疑為半導體等行業(yè)帶來了一定信心，但同時應清醒認識到，日本企業(yè)在高端光刻膠的標準制定、配方優(yōu)化、設備匹配及后期服務等方面積累深厚，國產(chǎn)光刻膠在技術積累上仍存在差距，需要持續(xù)追趕。

而我國此次的底氣，不僅在于光刻膠已可滿足部分需求，更因為日本在生產(chǎn)高端光刻膠過程中所需的多種關鍵中間體和高純化學品，如光敏劑（PAG）、高純?nèi)軇┑龋喈斠徊糠中柽M口。若這些原料供應受限，日本本土生產(chǎn)也將受到影響。

當前，日本一方面在安全領域視為“競爭對手”，采取激進姿態(tài)；另一方面又希望繼續(xù)保持市場與資源的經(jīng)濟依賴。這種矛盾做法難以持續(xù)。

從實際效果看，日本的激進政策已開始產(chǎn)生反噬效應。若其繼續(xù)忽視自身短板及周邊的合理關切，不僅難以實現(xiàn)所謂“國`家發(fā)`展目標”，還可能進一步加劇緊張關系，最終損害其長遠利益。