散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州，

盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

01

前沿導讀

當前中美之間的科技競爭已逐漸聚焦于兩個關鍵領域——稀土與光刻機，形成了一種相互制約的戰(zhàn)略平衡。這種平衡本質上是一場圍繞時間節(jié)點的競賽，雙方都試圖在對方突破己方壁壘之前，率先突破對方的優(yōu)勢領域。

這種產業(yè)博弈已經超越了簡單的貿易摩擦，升級為全球高科技產業(yè)鏈主導權的爭奪。

稀土作為現代工業(yè)的基礎資源，在新能源、軍工、高端制造等領域具有不可替代性。而光刻機作為芯片制造的核心產品，直接決定著未來科技行業(yè)的發(fā)展高度。

兩國各自在關鍵領域擁有顯著優(yōu)勢，又都在對方優(yōu)勢領域存在脆弱性，這種相互依存又相互競爭的局面構成了當今科技競爭的核心特征。

02

戰(zhàn)略博弈

稀土包含了17種金屬元素，從F-35戰(zhàn)斗機到電動汽車的永磁電機，均需要特定的稀土資源進行精煉。而中國企業(yè)占據著稀土精煉技術的主導地位，不但為全球提供了90%的稀土精煉產能，而且還在稀土儲能上面占據了全球48%的市場份額，這是中國經歷數十年產業(yè)發(fā)展所奠定的產業(yè)基礎。

而光刻機的先進程度，直接決定了未來科技的技術演進路線。不管是通用人工智能，還是專用人工智能，均需要先進的算力芯片，這些芯片完全依賴于先進的浸潤式光刻機以及EUV光刻機制造。尤其是在EUV光刻機領域，ASML一家獨大，全球僅此一家企業(yè)可以制造出商用領域的先進光刻機。

ASML的成功，完全建立在全球供應鏈的基礎上。

其設備包含了幾十萬個零件，有5000多家全球供應商，其中的核心部件如極紫外光源，是由美國Cymer公司提供，該公司已被ASML收購。光學系統(tǒng)由德國蔡司獨家供應，蔡司半導體部門制造的光學鏡頭以及反射系統(tǒng)，是EUV光刻機的唯一供應商。

眾多復雜的供應鏈體系，構成了以ASML為中心的技術生態(tài)系統(tǒng)。美國通過對這些核心供應商的管轄，實際掌控著全球高端光刻機的流向，從而形成對中國的制約。

美國通過《國防生產法》為稀土產業(yè)提供支持，設定價格保障機制試圖加速稀土供應鏈重建。與此同時，中國通過對稀土資源實施特定的出口管制，既精準管控敏感用途，又維持合規(guī)合作渠道，讓雙方的產業(yè)形成了一種制衡的局面。

美國MP Materials公司運營的芒廷帕斯礦，是西方國家唯一規(guī)?；南⊥恋V，但其產出的精礦仍需運往中國進行分離提純。

中國企業(yè)在稀土提純領域持有7成專利，可將稀土資源提純至5N等級，而美國實驗室目前的提純等級為3N級，無法滿足于軍工、半導體領域所需的精煉稀土資源。

澳大利亞的萊納斯公司，在馬來西亞建立了稀土分離工廠，但在重稀土分離方面剛剛起步，產能有限，無法在短期內大規(guī)模的實現重稀土供應。這種產業(yè)高度集中的情況，即便歐美國家投入大量資源去重建稀土供應鏈，那么其短期內也很難改變中國的主導地位。

而且中國部門還在今年10月9日宣布對鋰電池、人造石墨、稀土精煉設備等領域實施出口管制，這更加壓制了美國重建稀土供應鏈的進度。

03

產業(yè)優(yōu)勢

稀土資源與光刻機屬于兩種不同的產業(yè)，對于稀土這種能源技術來說，涉及到國家的基建水平和資源輸送水平。而光刻機產業(yè)涉及到機械制造、光學、化學等產業(yè)技術，屬于商業(yè)化的工業(yè)設備。

光刻機屬于模塊化的制造設備，可以將整個的產品拆分成許多個模塊技術的零件，先制造出所需的單一零件，然后將其進行組裝調試，最終形成一個可以持續(xù)運行的主體機器。

但是稀土屬于資源產業(yè)，需要開采、精煉、制造協(xié)同發(fā)展。想要用稀土資源去制造工業(yè)零部件，這對于資源的提純水平、運輸效率、可持續(xù)供應能力都有著極高要求。

中國的綠色能源技術與物流運輸業(yè)發(fā)展了幾十年，已經形成了一種非常成熟且高效的運作模式，這是一個國家在基建和產業(yè)布局上面長久以來所建立的產業(yè)體系，其投入的成本不可估量。

而中國本土的光刻機整機企業(yè)就是上海微電子，為加速光刻機產業(yè)化進程，我國采用了雙軌并行的發(fā)展路線。

在今年的灣芯展上面，由上海微電子公司拆分出的獨立公司芯上微裝人員對記者表示，芯上微裝專注于光刻機的市場化發(fā)展，已經向國內的許多相關企業(yè)交付了自主制造的后端光刻機設備。

未來的產業(yè)格局，將會是由我國的光機所以及高校企業(yè)承擔光刻機的模塊化技術開發(fā)，上海微電子承擔最終的產品制造，而剝離出來的芯上微裝負責將光刻機進行市場化發(fā)展，將上海微電子制造的整機產品出售給國內的企業(yè)，扮演一個將技術轉化為商業(yè)產品的關鍵角色。

盡管現在國產的浸潤式光刻機和EUV光刻機并未公布任何消息，但是清晰的產業(yè)思路以及舉國力量的扶持，將會在明年開始的十五五規(guī)劃中持續(xù)進行高強度的自主設備研發(fā)。預計到十五五規(guī)劃結束的2030年，中國的光刻機產業(yè)會迎來一個全新的面貌。

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