散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州，

盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

01

前沿導讀

《日經(jīng)亞洲》媒體此前發(fā)布討論稱：

盡管美國多次拉攏日本企業(yè)，要求其對中國芯片產(chǎn)業(yè)實施制裁限制，但是日本企業(yè)卻不愿意放棄與中國市場的合作。

日本的尼康、佳能曾經(jīng)是光刻機領(lǐng)域的霸主，但是美國投入大量資金將ASML扶持了出來，壓制了日本光刻機的市場空間。而現(xiàn)在中國市場對于光刻機技術(shù)的需求強盛，日本企業(yè)能否通過與中國企業(yè)合作，在光刻機領(lǐng)域壓制美國扶持的ASML？

02

技術(shù)競爭

在20世紀80年代到90年代左右，日本的光刻機技術(shù)領(lǐng)先全球，尼康憑借出色的光學技術(shù)和精密制造能力，占據(jù)全球光刻機市場超過5成的市場份額。

1984年，日本光刻機的市場規(guī)模超過了美國。

在全年出售的1100多臺光刻機中，絕大部分都是日本尼康或者美國GCA制造的產(chǎn)品，其中有600多臺都是日本晶圓廠購買的產(chǎn)品。在這個時期，日本芯片制造商購買的光刻機數(shù)量，比全球范圍內(nèi)其他國家加起來的數(shù)量還多，90%都是從尼康購買的產(chǎn)品。

日本企業(yè)依靠本土光刻機的優(yōu)勢，開始大批量制造DRAM存儲芯片。

這些芯片的性能優(yōu)異、穩(wěn)定性強，而且價格實惠、產(chǎn)能富足，在短短幾年內(nèi)就侵占了美國的消費市場。依靠存儲器技術(shù)發(fā)家的英特爾，也在這個時期宣布退出存儲器業(yè)務，放棄與日本企業(yè)競爭，轉(zhuǎn)型微處理器。

日本企業(yè)的擴張，引起了美國政府的高度重視。美國宣布對日本企業(yè)實施反壟斷調(diào)查，并且對其出口到美國的芯片施加額外關(guān)稅，迫使日本政府與美國簽訂了《美日半導體協(xié)定》，成功壓制了日本芯片的擴張。

此刻的美國本土光刻機產(chǎn)業(yè)已經(jīng)處于倒閉的邊緣，美國便開始以資本注入的方式扶持荷蘭的AMSL與其競爭。在ASML推出了PAS 5500光刻機并大獲成功之后，日本企業(yè)在光刻機領(lǐng)域的領(lǐng)先地位開始被侵蝕。

2001年ASML吞并了美國硅谷集團，將美國光刻機技術(shù)收入囊中。在ASML推出了浸潤式光刻機以及EUV光刻機之后，日本的光刻機產(chǎn)業(yè)成為了真正意義上的落后者。

截至2024年，ASML在全球光刻機市場份額達到62%，佳能和尼康分別占31%和7%。在最先進的EUV領(lǐng)域，ASML的市場占比依然毫無懸念的是100%。

目前尼康最先進的光刻機是浸潤式技術(shù)的NSR-S636E，支持7nm-5nm先進芯片的制造，每小時可制造280片以上的晶圓，相當于是ASML NXT：1980i光刻機的硬件水平。

盡管尼康聲稱該技術(shù)產(chǎn)品不使用美國的技術(shù)，也不受美國最小技術(shù)比例原則的出口限制，但是對比ASML的浸潤式設備，尼康的產(chǎn)品在技術(shù)成熟度、市場規(guī)模、服務體系等多個方面均沒有優(yōu)勢。

而佳能選擇了與傳統(tǒng)光刻不同的納米壓印技術(shù)，首批制造的納米壓印光刻機“FPA-1200NZ2C”已經(jīng)交付給了日本東芝公司，東芝公司將其應用于制造存儲芯片。

根據(jù)佳能官方的資料顯示，由于該產(chǎn)品屬于全新的技術(shù)形式，所以這款設備的技術(shù)效益在短時間內(nèi)不太可能帶來巨大的改善。需要在后續(xù)的使用中逐步優(yōu)化，以達到一個良好的水平。

03

產(chǎn)業(yè)合作

2019年，美國開始在半導體產(chǎn)業(yè)鏈對中國實施出口管制，中國本土企業(yè)不能購買含有美國技術(shù)的制造設備，這給了日本以及歐洲部分企業(yè)一個很好的機會。

根據(jù)日本財務省與海關(guān)部門所發(fā)布的統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，2021年日本對華出口半導體設備達到了一個高峰期，其出口金額將近120億美元，絕大部分都來自于東京電子。

在2024年出口的半導體設備中，有一半的產(chǎn)品均銷往了中國大陸地區(qū)。其季度半導體產(chǎn)業(yè)出口額達到了33.2億美元，增長比例達到了82%，創(chuàng)下2007年以來的新紀錄。并且中國大陸市場已經(jīng)連續(xù)多個季度成為了日本半導體設備的最大出口地。

從幾十年前美國與日本簽訂《美日半導體協(xié)定》之后，日本企業(yè)就選擇將投資目標放在中國市場，華虹NEC就是在這種條件下的一次初步嘗試。

日本企業(yè)掌握著設備材料等供應鏈優(yōu)勢，中國大陸地區(qū)擁有龐大的資源和地域優(yōu)勢，并且對技術(shù)成熟的制造設備有極高的需求量，雙方的合作具備很強的互補性。

雖然日本企業(yè)掌握著多種制造設備，但部分后端設備的市場空間不大，大部分都提供給國內(nèi)的企業(yè)使用，出口占比也不高。反觀歐美國家，牢牢把握著光刻機、刻蝕機等先進的前端制造設備，沒有這些前端設備作為支撐，后端的制造設備用處也不大了。

而中國企業(yè)現(xiàn)在走的路線則是全棧自研，從最前端的EDA工具，到光刻機、刻蝕機、后端的制造設備，全部進行自主知識產(chǎn)權(quán)的技術(shù)研發(fā)，盡最大努力擺脫對海外技術(shù)的依賴。

尼康和佳能的光刻機設備雖然可以在一定程度上代替ASML，降低對美國技術(shù)的依賴風險，但是其本質(zhì)上還是基于外國的技術(shù)基礎來制造國產(chǎn)芯片，這對于當下走自主可控路線的中國芯片來說是相悖的。

況且中國企業(yè)手中還持有著上百臺之前從ASML手中采購的光刻機，這些設備都是中國企業(yè)在幾年前合法采購而來，已經(jīng)經(jīng)過了市場驗證，在制造效率、穩(wěn)定性、市場規(guī)模等多個方面具有優(yōu)勢，可以保證中國成熟芯片的產(chǎn)能，讓中國芯片更快更穩(wěn)定的融入全球生態(tài)鏈當中。

與此同時，中國企業(yè)也可以通過這些設備，不斷積累光刻機產(chǎn)業(yè)的技術(shù)經(jīng)驗，并且將這些有用的經(jīng)驗應用到開發(fā)自主設備的過程中。

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