相信很多人都聽過“光刻機(jī)是工業(yè)皇冠上的明珠”這句話，這些年被西方媒體吹得神乎其神，仿佛誰攥住它，誰就拿捏了全球半導(dǎo)體的命門。

但2025年，項(xiàng)立剛一句“這顆明珠很快要變成玻璃珠了”，直接在圈內(nèi)炸了鍋，圈外人也跟著湊起了熱鬧，心里都打了個(gè)問號(hào)：這話是真的嗎？中國(guó)真的在光刻機(jī)上追上了？真的行了？

其實(shí)答案很簡(jiǎn)單，不是一步登天，卻是實(shí)打?qū)嵉耐黄?。去年新凱來一口氣拿出31款半導(dǎo)體設(shè)備，從刻蝕到光學(xué)檢測(cè)，幾乎覆蓋了芯片制造的所有核心環(huán)節(jié)。更有意思的是，這些設(shè)備都用武夷山、峨眉山這些中國(guó)名山命名，那份底氣，明眼人一看就懂。

而且項(xiàng)立剛說過一句特別實(shí)在的話，產(chǎn)業(yè)發(fā)展從來不是靠捷徑，靠的是無數(shù)普通人踏踏實(shí)實(shí)干，一點(diǎn)一點(diǎn)熬出來的。這話放在中國(guó)光刻機(jī)身上，再貼切不過。咱們能走到今天，全靠一個(gè)“熬”字，而這個(gè)“熬”，離不開美國(guó)這些年的層層封堵。

說起來都是淚，早在2018年，美國(guó)就給荷蘭施壓，不讓ASML給中國(guó)賣最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)。結(jié)果就是，中芯國(guó)際都付了錢，最后一臺(tái)機(jī)器也沒拿到，竹籃打水一場(chǎng)空。這還不算完，從2019年開始，美國(guó)的限制一輪比一輪嚴(yán)，從EUV延伸到DUV，從高端型號(hào)卡到中高端，到2025年，荷蘭更是直接把DUV的出口限制從7納米提到14納米，擺明了想把我們卡死。

可他們忘了，中國(guó)人最不怕的就是被逼到絕境。其實(shí)咱們搞光刻機(jī)的歷史，比很多人想的久多了。上世紀(jì)70年代，在西方封鎖的大背景下，咱們的團(tuán)隊(duì)從零起步，硬是造出了一臺(tái)光刻機(jī)?？上Ш髞懋a(chǎn)業(yè)化沒跟上，差距越拉越大，到21世紀(jì)初，幾乎又要從頭再來。直到2021年，事情才有了轉(zhuǎn)折，短短三年時(shí)間，我們就從零攢起了基本能力，慢慢開始面向市場(chǎng)。

2025年，好消息更是扎堆來。上海微電子交付了首臺(tái)28納米浸沒式光刻機(jī)，從之前的90納米躍升到28納米，這一步走得特別扎實(shí)。EUV方向上，哈工大研發(fā)出13.5納米極紫外光技術(shù)，中科院上海光機(jī)所用固體激光器搞出了LPP-EUV光源，達(dá)到了國(guó)際領(lǐng)先水平。

反觀ASML，日子就沒那么好過了，2025年中國(guó)市場(chǎng)占了它33%的銷售額，是最大的單一市場(chǎng)，但它自己預(yù)測(cè)，2026年這個(gè)占比會(huì)降到20%，封鎖的反噬，慢慢顯現(xiàn)出來了。

當(dāng)然，咱們也得清醒，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)離世界頂尖還有差距。比如套刻精度，上海微電子能做到8納米，而ASML已經(jīng)到了亞納米級(jí)別，關(guān)鍵部件還有部分依賴進(jìn)口，EUV從樣機(jī)到量產(chǎn)，還有很多難關(guān)要過。

項(xiàng)立剛的話或許有些樂觀，但不可否認(rèn)的是，中國(guó)正在用實(shí)力，把光刻機(jī)從神壇拉回賽場(chǎng)。等國(guó)產(chǎn)設(shè)備大規(guī)模進(jìn)場(chǎng)，到時(shí)候，價(jià)格、供應(yīng)鏈、話語權(quán)，都會(huì)徹底不一樣。