近日，蘇大維格（300331.SZ）子公司維普半導(dǎo)體稱(chēng)，公司新一代STORM5000掩模缺陷檢測(cè)設(shè)備順利通過(guò)國(guó)內(nèi)某頭部客戶(hù)商用驗(yàn)收，同時(shí)下一臺(tái)STORM5000設(shè)備目前已完成出廠前測(cè)試，將于本月底前交付國(guó)內(nèi)另一關(guān)鍵客戶(hù)。

維普半導(dǎo)體是國(guó)內(nèi)極少數(shù)在半導(dǎo)體光掩模缺陷檢測(cè)設(shè)備領(lǐng)域已實(shí)現(xiàn)規(guī)�；慨a(chǎn)的企業(yè)，其技術(shù)、產(chǎn)品和核心算法系正向自研開(kāi)發(fā)，擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)，主要核心零部件實(shí)現(xiàn)了國(guó)產(chǎn)化和自主可控。其產(chǎn)品已進(jìn)入國(guó)內(nèi)頭部晶圓廠和國(guó)內(nèi)外頭部掩膜版廠商的量產(chǎn)線(xiàn)，用于替代美國(guó)KLA及日本Lasertec產(chǎn)品。

STORM5000是維普半導(dǎo)體推出的第4代掩模圖形缺陷檢測(cè)設(shè)備，基于STORM3000的技術(shù)積累及成功經(jīng)驗(yàn)，經(jīng)過(guò)近3年的迭代研發(fā)，STORM5000在光學(xué)成像、算法、算力等方面進(jìn)一步提升，可滿(mǎn)足更高制程的Mask制造。支持PSM、Binary掩模檢測(cè)，適配ArF與KrF對(duì)應(yīng)的技術(shù)節(jié)點(diǎn)，產(chǎn)品關(guān)鍵指標(biāo)達(dá)預(yù)期，具備相關(guān)進(jìn)口設(shè)備的替代能力。

ArF光源制程是指使用氟化氬(ArF)準(zhǔn)分子激光作為曝光光源的光刻技術(shù)，ArF光刻機(jī)通過(guò)193納米激光束照射光刻膠，使其發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成電路圖案。干式ArF光刻機(jī)在干燥環(huán)境下工作，可支持65納米至130納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)(如邏輯芯片后段金布線(xiàn)層)。浸沒(méi)式ArF光刻技術(shù)則在投影透鏡與硅片之間注入超純水，利用水的折射率將有效波長(zhǎng)縮短至134納米，顯著提升分辨率，覆蓋從45納米到7納米的制程范圍。多重曝光等技術(shù)進(jìn)一步擴(kuò)展了其應(yīng)用邊界，使浸沒(méi)式ArF成為12英寸晶圓廠服役時(shí)間最長(zhǎng)的“功勛設(shè)備”。

業(yè)內(nèi)人士表示，ArF制程主要集中在半導(dǎo)體制造的光刻環(huán)節(jié)，ArF制程的應(yīng)用直接支撐了國(guó)內(nèi)先進(jìn)制程芯片的研發(fā)與生產(chǎn)。盡管當(dāng)前國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)主要覆蓋成熟制程，但ArF光刻膠的技術(shù)突破已使國(guó)內(nèi)晶圓廠具備14納米及以下節(jié)點(diǎn)的制造能力?。這一進(jìn)展對(duì)汽車(chē)芯片、消費(fèi)電子等領(lǐng)域具有現(xiàn)實(shí)意義，例如2021年日本企業(yè)對(duì)華ArF光刻膠斷供曾導(dǎo)致國(guó)內(nèi)14納米晶圓廠產(chǎn)能停擺，凸顯了自主化的重要性。

掩膜版缺陷檢測(cè)設(shè)備2023年全球市場(chǎng)規(guī)模約為18.1億美元，預(yù)計(jì)2030年將達(dá)到30億美元。該領(lǐng)域過(guò)去主要由美、日壟斷，國(guó)產(chǎn)率不足3%。本次常州維普半導(dǎo)體推出的第4代掩模圖形缺陷檢測(cè)設(shè)備STORM5000的驗(yàn)收通過(guò)代表了我國(guó)在半導(dǎo)體掩模圖形缺陷檢測(cè)設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化上邁出重要且堅(jiān)實(shí)的一步。??

另外，據(jù)維普半導(dǎo)體公眾號(hào)顯示，公司產(chǎn)品已交付上海中芯國(guó)際、迪思微、中微掩模、路維光電、路芯半導(dǎo)體、清溢光電、龍圖光罩、睿晶半導(dǎo)體等國(guó)內(nèi)客戶(hù)，且實(shí)現(xiàn)連續(xù)復(fù)購(gòu)，并且已進(jìn)入科盛德(上海)、美日豐創(chuàng)（廈門(mén)）等國(guó)際一線(xiàn)客戶(hù)。

此前，A股上市公司蘇大維格以5.1億元關(guān)聯(lián)交易收購(gòu)常州維普半導(dǎo)體設(shè)備有限公司51%股權(quán)。交易完成后，常州維普將成為蘇大維格控股子公司，納入合并報(bào)表范圍。

蘇大維格作為國(guó)內(nèi)微納光學(xué)領(lǐng)域的龍頭企業(yè)，其核心業(yè)務(wù)已覆蓋高端激光直寫(xiě)光刻機(jī)和納米壓印光刻機(jī)的研發(fā)與制造，而半導(dǎo)體光掩模制造設(shè)備、先進(jìn)封裝檢測(cè)設(shè)備等業(yè)務(wù)，正成為其未來(lái)發(fā)展的核心戰(zhàn)略方向。

收購(gòu)維普半導(dǎo)體后，雙方可以發(fā)揮各自在激光直寫(xiě)光刻和掩模缺陷檢測(cè)領(lǐng)域的優(yōu)勢(shì)，一方面，蘇大維格可借助常州維普半導(dǎo)體的客戶(hù)資源及量產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)，加快推進(jìn)激光直寫(xiě)光刻機(jī)在半導(dǎo)體光掩模制造和先進(jìn)封裝領(lǐng)域的量產(chǎn)應(yīng)用；另一方面，也極大程度上助力常州維普半導(dǎo)體在先進(jìn)制程光學(xué)系統(tǒng)方面實(shí)現(xiàn)更加高效的研發(fā)。產(chǎn)業(yè)整合符合國(guó)家產(chǎn)業(yè)政策和通過(guò)并購(gòu)做大做強(qiáng)上市的目標(biāo)。