12月12日，第十一屆福建青年創(chuàng)青春大賽總結交流活動暨科技創(chuàng)新成果分享會在三明永安成功舉辦。本次大賽以“青春為中國式現(xiàn)代化挺膺擔當”為主題，設置科技創(chuàng)新、數(shù)字經濟、臺灣青年創(chuàng)業(yè)三大專項，共吸引1266個項目報名參賽，涵蓋人工智能、生物制造、生命健康、大數(shù)據(jù)、區(qū)塊鏈技術等多個前沿領域，涌現(xiàn)出一批科技含量高、市場潛力大、社會效益好的優(yōu)質創(chuàng)新項目。

近日，集美大學先進半導體級薄膜實驗室“大面積高均勻性MPALD設備開發(fā)”項目獲得第十一屆福建青年創(chuàng)青春大賽決賽臺灣青年創(chuàng)業(yè)組一等獎，其直擊7納米及以下先進制程薄膜沉積的均勻性、穩(wěn)定性問題，并進一步應用于鰭式場效應晶體管，為國內半導體產業(yè)提供具有國際競爭力的設備解決方案。實驗室負責人表示：“這份榮譽如同一束光，照亮了青年科技工作者在半導體裝備自主創(chuàng)新道路上跋涉的足跡，也讓我們所為之奮斗的技術理想獲得了前所未有的認可。”

“自實驗室誕生之日起，我們便確立了以‘工藝—設備雙輪驅動’為核心的戰(zhàn)略，不僅要做設備，更要深入工藝本質，解決從原理到應用的完整鏈條問題。我們深知，突破技術壁壘絕非易事，尤其是面對外延制造中至關重要的‘ ?? 11 ??? 13 cm ?3 高密度等離子體’技術高地。它如同半導體精密皇冠上的一顆明珠，我們立志要將其摘下?！闭劶绊椖垦邪l(fā)的初衷，實驗室負責人如是說。目前，全球半導體行業(yè)正在快速向更高精度、更低功耗的技術節(jié)點發(fā)展，7納米及以下制程需求持續(xù)增長。薄膜沉積技術在晶圓制造中扮演著關鍵角色，其均勻性、穩(wěn)定性和沉積速率直接影響芯片性能。國內市場對高效、低成本的薄膜沉積設備需求迫切，尤其是能夠替代國際巨頭產品的國產設備更是備受青睞。MPALD生長氧化物、氮化物、碳化物等薄膜沉積技術正是這個解決方案的首選。

在實驗室多年的研發(fā)實踐中，由青年科技骨干組成的團隊積累了大量的技術成果和經驗數(shù)據(jù)，為持續(xù)向半導體裝備中“感生超高電子密度及其高活性自由基”這一更尖端的技術高峰攀登奠定了基礎。未來，實驗室將繼續(xù)以技術為本，以創(chuàng)新為刃，與產業(yè)同仁一道，為提升中國半導體裝備的自主化與競爭力貢獻熱忱與智慧。

來源：福建共青團、福建青年 編輯：莫曉蘭 校對：韓穆穎 校審：余運煒