散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州，

盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

01

前沿導讀

據觀察者網旗下心智觀察所發(fā)布的內容表示：

ASML在11月的中國進博會上，發(fā)布了兩款先進的光刻機產品：TWINSCAN XT：260、TWINSCAN NXT：870B。其中最受關注的就是XT：260，這是ASML推出的首款應用于封裝領域的先進光刻機產品。

在此之前，我國通信專家項立剛在個人平臺發(fā)文指出：光刻機是拿來生產產品的，而不是用來展示的。相較于把產品的微觀模型放在展會上展覽，還不如隱藏信息，在生產線上測試更重要。

項立剛的言論引起了熱議，媒體認為其說法是選擇性解讀和逆向推理，這種言論反映出了當前輿論場中一個危險的傾向：用民族情緒和想象力代替技術理性，用“戰(zhàn)略模糊”掩蓋真實差距。

02

技術差距

光刻機作為人類制造的頂級工業(yè)設備，其在復雜度、功能特性、產業(yè)鏈融合均有著極高的標準。

項立剛認為，中國企業(yè)用5年的時間，已經將一個系統(tǒng)級別的半導體產業(yè)鏈補全。但是由于美國的封鎖限制，讓中國企業(yè)在開發(fā)自主設備的時候非常低調，哪怕是有了自主先進的光刻機，也不會公布出來，而是直接在生產線上運行。這種能力完全是震驚世界的，不需要用一個光刻機展示出來宣示。

對于他的這種說法言論，與媒體評價的“用民族情緒和想象力代替技術理性，用戰(zhàn)略模糊來掩蓋真實差距”不謀而合。

我國去年公布的國產氟化氬光刻機，其分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm，屬于干式技術設備。這與ASML在上一屆進博會上展示的NXT：1470光刻機配置類似，但是NXT：1470的分辨率和套刻精度更高，在技術和效率上面優(yōu)于我國的設備。

而NXT：1470在ASML整個產品系列中，屬于中等產品。在此之上還有浸潤式DUV光刻機、EUV光刻機、高數值孔徑EUV光刻機。

并且光刻機屬于消費類工業(yè)設備，其最終目的是投入市場制造產品，從而創(chuàng)造經濟價值。

光刻機從制造到最終投入生產線運行，至少需要三年時間。前兩年完成的是各零部件的開發(fā)，然后運送到買家的工廠當中，剩下一年需要進行系統(tǒng)調試。確認完全沒有問題的情況下，這臺設備才會量產芯片。

完成了設備的開發(fā)，只能代表成功了一半。技術調試的成功與否，決定了另一半成功率。

光刻機需要安放在高度潔凈的室內，對于室內的空氣干凈度、地基穩(wěn)定性、電力水源的輸送都有著極其高的標準。哪怕是溫度出現0.001度的變化、設備出現幾納米的位置偏移，都可能影響到光刻機的制造精度。

先進光刻機的模塊零部件達到數十萬個，涉及到全球5000家以上的供應商。單是一個光學系統(tǒng)，其所需的零部件總數就在40萬個以上。

據產業(yè)專家指出，光刻機的制造商用，并不只是簡單的組裝，需要各個供應鏈之間相配合。

國產光刻機想要實現長足的產業(yè)影響力，必須與本土供應商深度融合，這不是一朝一夕就能成功的。缺乏本土客戶的長期驗證和反饋，即便國產光刻機制造出來，也難以形成真正意義上的產業(yè)化能力。

03

警惕捧殺

項立剛引用ASML公司的信息分析稱，未來ASML的中國市場份額會大幅度下降，這是因為中國的國產光刻機正在逐漸放量，ASML面臨著市場沖擊，我們正在用國產設備替換ASML的進口設備。

但是據ASML官方發(fā)布的2025年第三季度財報顯示，中國大陸區(qū)占據了ASML總銷售規(guī)模的42%，較上一個季度的27%增速明顯。

公司CEO克里斯托弗·富凱在財報大會上面對外表示，中國客戶的需求已基本得到滿足，未來ASML的中國大陸區(qū)業(yè)務將會回歸到20%左右的正常水平。

ASML首席財務官羅杰·達森在2023年第四季度及全年的財報大會上面表示，2023年的中國區(qū)業(yè)務強勁，ASML給中國的成熟工廠交付了許多光刻機設備，這些設備大多都是2022年之前的訂單，符合美國以及荷蘭的出口條例。

但ASML先進的浸潤式光刻機，NXT:1970i 、NXT:1980i以及更高端的設備，無法出口給部分敏感的中國工廠。對于其他不太敏感的中國工廠，出口以上設備需要向荷蘭申請出口許可。

連續(xù)多年大量采購的行動，說明的是中國企業(yè)為保證國內芯片的規(guī)模而囤積設備。如果我們的國產光刻機真的具備替代ASML的實力，那么國內的企業(yè)就沒必要再花費巨額資源去購買進口設備。

中國先進芯片的技術突破，也并不能說明是國產光刻機的突破。

荷蘭半導體觀察者馬克·海金克曾在個人作品中指出，中國企業(yè)的手中有上百臺ASML的浸潤式光刻機，就算被封鎖EUV，中國企業(yè)還可以憑借著浸潤式光刻機以及自對準多重圖案化技術制造7nm芯片。

這種方法雖然可以暫時解決7nm芯片的供應問題，但是其能效、經濟效益、良品率均大打折扣，而且還會快速面臨著技術瓶頸。

媒體將這種現存的問題形容為“戰(zhàn)略模糊”，技術發(fā)展講究實事求是，你需要先正確認識差距，才能有追趕的機會。如果是沉浸在我們已經突破，但是我們不說的輿論體系下，這是有悖于事實的。

中國半導體產業(yè)鏈已經取得了長足的技術進步，但是想要在短短幾年內完成國產高端芯片的自主化全棧制造，難度極大，尤其是在最前端的光刻機領域，中國設備距外國設備的差距存在顯著的代差。這個差距是客觀存在的，承認差距是理性，夸大成就是自欺。

參考資料： 光刻機是拿來用的不是拿來展的_風聞 真相比情緒重要，誤讀中國光刻機正在傷害真正的進步 https://user.guancha.cn/main/content?id=1532529 https://www.guancha.cn/xinzhiguanchasuo/2025_11_20_797635.shtml

往期經典回顧：50萬+閱讀量

往期經典回顧：100萬+閱讀量