散英魂寄千萬雄鷹翱翔神州，

盡智魄載十億慧芯呼喚華夏。

01

前沿導(dǎo)讀

據(jù)觀察者網(wǎng)旗下心智觀察所發(fā)布的內(nèi)容表示：

ASML在11月的中國進博會上，發(fā)布了兩款先進的光刻機產(chǎn)品：TWINSCAN XT：260、TWINSCAN NXT：870B。其中最受關(guān)注的就是XT：260，這是ASML推出的首款應(yīng)用于封裝領(lǐng)域的先進光刻機產(chǎn)品。

在此之前，我國通信專家項立剛在個人平臺發(fā)文指出：光刻機是拿來生產(chǎn)產(chǎn)品的，而不是用來展示的。相較于把產(chǎn)品的微觀模型放在展會上展覽，還不如隱藏信息，在生產(chǎn)線上測試更重要。

項立剛的言論引起了熱議，媒體認為其說法是選擇性解讀和逆向推理，這種言論反映出了當(dāng)前輿論場中一個危險的傾向：用民族情緒和想象力代替技術(shù)理性，用“戰(zhàn)略模糊”掩蓋真實差距。

02

技術(shù)差距

光刻機作為人類制造的頂級工業(yè)設(shè)備，其在復(fù)雜度、功能特性、產(chǎn)業(yè)鏈融合均有著極高的標(biāo)準。

項立剛認為，中國企業(yè)用5年的時間，已經(jīng)將一個系統(tǒng)級別的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈補全。但是由于美國的封鎖限制，讓中國企業(yè)在開發(fā)自主設(shè)備的時候非常低調(diào)，哪怕是有了自主先進的光刻機，也不會公布出來，而是直接在生產(chǎn)線上運行。這種能力完全是震驚世界的，不需要用一個光刻機展示出來宣示。

對于他的這種說法言論，與媒體評價的“用民族情緒和想象力代替技術(shù)理性，用戰(zhàn)略模糊來掩蓋真實差距”不謀而合。

我國去年公布的國產(chǎn)氟化氬光刻機，其分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm，屬于干式技術(shù)設(shè)備。這與ASML在上一屆進博會上展示的NXT：1470光刻機配置類似，但是NXT：1470的分辨率和套刻精度更高，在技術(shù)和效率上面優(yōu)于我國的設(shè)備。

而NXT：1470在ASML整個產(chǎn)品系列中，屬于中等產(chǎn)品。在此之上還有浸潤式DUV光刻機、EUV光刻機、高數(shù)值孔徑EUV光刻機。

并且光刻機屬于消費類工業(yè)設(shè)備，其最終目的是投入市場制造產(chǎn)品，從而創(chuàng)造經(jīng)濟價值。

光刻機從制造到最終投入生產(chǎn)線運行，至少需要三年時間。前兩年完成的是各零部件的開發(fā)，然后運送到買家的工廠當(dāng)中，剩下一年需要進行系統(tǒng)調(diào)試。確認完全沒有問題的情況下，這臺設(shè)備才會量產(chǎn)芯片。

完成了設(shè)備的開發(fā)，只能代表成功了一半。技術(shù)調(diào)試的成功與否，決定了另一半成功率。

光刻機需要安放在高度潔凈的室內(nèi)，對于室內(nèi)的空氣干凈度、地基穩(wěn)定性、電力水源的輸送都有著極其高的標(biāo)準。哪怕是溫度出現(xiàn)0.001度的變化、設(shè)備出現(xiàn)幾納米的位置偏移，都可能影響到光刻機的制造精度。

先進光刻機的模塊零部件達到數(shù)十萬個，涉及到全球5000家以上的供應(yīng)商。單是一個光學(xué)系統(tǒng)，其所需的零部件總數(shù)就在40萬個以上。

據(jù)產(chǎn)業(yè)專家指出，光刻機的制造商用，并不只是簡單的組裝，需要各個供應(yīng)鏈之間相配合。

國產(chǎn)光刻機想要實現(xiàn)長足的產(chǎn)業(yè)影響力，必須與本土供應(yīng)商深度融合，這不是一朝一夕就能成功的。缺乏本土客戶的長期驗證和反饋，即便國產(chǎn)光刻機制造出來，也難以形成真正意義上的產(chǎn)業(yè)化能力。

03

警惕捧殺

項立剛引用ASML公司的信息分析稱，未來ASML的中國市場份額會大幅度下降，這是因為中國的國產(chǎn)光刻機正在逐漸放量，ASML面臨著市場沖擊，我們正在用國產(chǎn)設(shè)備替換ASML的進口設(shè)備。

但是據(jù)ASML官方發(fā)布的2025年第三季度財報顯示，中國大陸區(qū)占據(jù)了ASML總銷售規(guī)模的42%，較上一個季度的27%增速明顯。

公司CEO克里斯托弗·富凱在財報大會上面對外表示，中國客戶的需求已基本得到滿足，未來ASML的中國大陸區(qū)業(yè)務(wù)將會回歸到20%左右的正常水平。

ASML首席財務(wù)官羅杰·達森在2023年第四季度及全年的財報大會上面表示，2023年的中國區(qū)業(yè)務(wù)強勁，ASML給中國的成熟工廠交付了許多光刻機設(shè)備，這些設(shè)備大多都是2022年之前的訂單，符合美國以及荷蘭的出口條例。

但ASML先進的浸潤式光刻機，NXT:1970i 、NXT:1980i以及更高端的設(shè)備，無法出口給部分敏感的中國工廠。對于其他不太敏感的中國工廠，出口以上設(shè)備需要向荷蘭申請出口許可。

連續(xù)多年大量采購的行動，說明的是中國企業(yè)為保證國內(nèi)芯片的規(guī)模而囤積設(shè)備。如果我們的國產(chǎn)光刻機真的具備替代ASML的實力，那么國內(nèi)的企業(yè)就沒必要再花費巨額資源去購買進口設(shè)備。

中國先進芯片的技術(shù)突破，也并不能說明是國產(chǎn)光刻機的突破。

荷蘭半導(dǎo)體觀察者馬克·海金克曾在個人作品中指出，中國企業(yè)的手中有上百臺ASML的浸潤式光刻機，就算被封鎖EUV，中國企業(yè)還可以憑借著浸潤式光刻機以及自對準多重圖案化技術(shù)制造7nm芯片。

這種方法雖然可以暫時解決7nm芯片的供應(yīng)問題，但是其能效、經(jīng)濟效益、良品率均大打折扣，而且還會快速面臨著技術(shù)瓶頸。

媒體將這種現(xiàn)存的問題形容為“戰(zhàn)略模糊”，技術(shù)發(fā)展講究實事求是，你需要先正確認識差距，才能有追趕的機會。如果是沉浸在我們已經(jīng)突破，但是我們不說的輿論體系下，這是有悖于事實的。

中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈已經(jīng)取得了長足的技術(shù)進步，但是想要在短短幾年內(nèi)完成國產(chǎn)高端芯片的自主化全棧制造，難度極大，尤其是在最前端的光刻機領(lǐng)域，中國設(shè)備距外國設(shè)備的差距存在顯著的代差。這個差距是客觀存在的，承認差距是理性，夸大成就是自欺。

參考資料： 光刻機是拿來用的不是拿來展的_風(fēng)聞 真相比情緒重要，誤讀中國光刻機正在傷害真正的進步 https://user.guancha.cn/main/content?id=1532529 https://www.guancha.cn/xinzhiguanchasuo/2025_11_20_797635.shtml

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