2001年，中科院院士、北京大學(xué)微電子研究院院長王陽元開展了一場關(guān)于“微電子科學(xué)技術(shù)和集成電路產(chǎn)業(yè)”的報(bào)告，該報(bào)告重點(diǎn)分析我國發(fā)展微電子和集成電路產(chǎn)業(yè)的必要性、緊迫性、措施和建議。

隨后，制造芯片的光刻機(jī)設(shè)備成為了十五期間首要進(jìn)行攻關(guān)的項(xiàng)目。次年，光刻機(jī)項(xiàng)目被列入國家863計(jì)劃中，上海微電子裝備集團(tuán)也因此正式成立。

上微公司的總經(jīng)理賀榮明先生，主動(dòng)帶隊(duì)去歐美地區(qū)展開合作。但是當(dāng)賀榮明先生對國外企業(yè)表示中國人也要做光刻機(jī)的時(shí)候，外國專家滿眼不屑的對賀榮明先生說到：“就是給你們?nèi)讏D紙，你們也做不出來。”

從當(dāng)年給圖紙也造不出來，到現(xiàn)在ASML等歐洲企業(yè)主動(dòng)要求美國政府放松出口管制，通過出口特定的設(shè)備來壓制中國自主設(shè)備的發(fā)展，這其中表現(xiàn)出來的是歐美企業(yè)對中國科技發(fā)展所產(chǎn)生的焦慮感。

上海微電子在封裝光刻機(jī)領(lǐng)域占據(jù)國內(nèi)80%的市場空間，在制造LED/MEMS/功率器件所用的光刻機(jī)中，上海微電子的國產(chǎn)光刻機(jī)已經(jīng)在性能指標(biāo)上面達(dá)到了領(lǐng)先水平，其LED光刻機(jī)市場占有率第一。

盡管國產(chǎn)光刻機(jī)已經(jīng)從當(dāng)年“給圖紙也造不出”，發(fā)展成如今在部分環(huán)節(jié)實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化替代，但是光刻機(jī)分為前道設(shè)備以及后道設(shè)備。前道設(shè)備主要用于芯片制造的曝光，而后道設(shè)備用于芯片的成品封裝步驟。

從技術(shù)水平和產(chǎn)業(yè)鏈上面來看，前道光刻機(jī)的重要性和技術(shù)難度遠(yuǎn)大于后道光刻機(jī)。

上海微電子已經(jīng)完成了90nm前道光刻機(jī)的制造，但是荷蘭ASML、日本的尼康、佳能等企業(yè)均在前道光刻機(jī)領(lǐng)域摸爬滾打了幾十年，并且ASML已經(jīng)成為了全球前道光刻機(jī)的龍頭老大。

只是依靠制造銷售光刻機(jī)這個(gè)單一業(yè)務(wù)，ASML穩(wěn)坐全球晶圓設(shè)備制造商全球第一的位置，甚至其創(chuàng)造的經(jīng)濟(jì)利益要比一眾美國的大型裝備集團(tuán)還要高。

由此可見，要實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)先進(jìn)芯片的自主可控，先進(jìn)技術(shù)的前道光刻機(jī)是必須要面對的問題。

據(jù)《瞭望智庫》此前發(fā)布的報(bào)道指出，每當(dāng)中國企業(yè)宣布在光刻機(jī)領(lǐng)域有所進(jìn)展的情況下，荷蘭ASML就立即降價(jià)甩賣同代和上代的光刻機(jī)產(chǎn)品，提前一步搶占中國市場，擠壓中國本土設(shè)備的市場空間。

參考資料： 李瑤，公眾號(hào)：瞭望智庫給全套圖紙，中國人都造不出高端光刻機(jī)？

盡管我國在2024年公布65nm分辨率光刻機(jī)依然還是干式ArF設(shè)備，與ASML最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)技術(shù)差距較大，但是從當(dāng)年分辨率90nm的設(shè)備發(fā)展到如今分辨率65nm的設(shè)備，我們只用了6年時(shí)間。

這也就是說，在這6年的時(shí)間里，我們一直在提升國產(chǎn)光刻機(jī)的技術(shù)水平。

甚至我們已經(jīng)公布的干式光刻機(jī)，在性能指標(biāo)上已經(jīng)超過了沒有ArF光刻機(jī)的日本佳能。由于佳能主攻納米壓印技術(shù)，導(dǎo)致其干式光刻機(jī)的技術(shù)進(jìn)步幾乎停滯，這也讓中國企業(yè)有了追趕的空間。

美國對中國實(shí)施出口管制的時(shí)間，最早可以追溯到“巴黎統(tǒng)籌委員會(huì)”以及后來的“瓦森納協(xié)定”。

瓦森納協(xié)定的限制措施按照N-2的原則執(zhí)行，只允許比最先進(jìn)技術(shù)落后兩代的產(chǎn)品設(shè)備出口給中國，不允許出口最先進(jìn)的技術(shù)。

而設(shè)備出口到實(shí)際使用，中間還需要經(jīng)過一段時(shí)間的審批以及技術(shù)調(diào)試。如果將這段時(shí)間算在內(nèi)，那么中國企業(yè)使用外國設(shè)備的時(shí)候，相當(dāng)于比外國最先進(jìn)的技術(shù)落后三代。

盡管制造7nm芯片并不完全依賴于EUV光刻機(jī)這一條路線，但是EUV光刻機(jī)的加入，可以極大提升其制造效率和芯片良品率，具備更良好的經(jīng)濟(jì)性條件。

此前有一種說法是如果海外的設(shè)備全部停止工作，那么中國并不是完全沒有芯片能用，國產(chǎn)光刻機(jī)也可以批量制造成熟芯片來保證基礎(chǔ)設(shè)施正常運(yùn)行，只不過在先進(jìn)芯片領(lǐng)域就要落后許多了。

成熟芯片保證整個(gè)國家的正常運(yùn)行，而先進(jìn)芯片則是開啟新時(shí)代科技的技術(shù)競爭。一旦無法進(jìn)入到先進(jìn)技術(shù)的賽道上面，國外企業(yè)將會(huì)掌握先進(jìn)技術(shù)的先發(fā)優(yōu)勢，申請技術(shù)專利并以此來封鎖我們發(fā)展先進(jìn)技術(shù)的機(jī)會(huì)。

而國產(chǎn)先進(jìn)的制造設(shè)備，就是我們踏入先進(jìn)技術(shù)賽道的“敲門磚”。

前中興通訊副總經(jīng)理、復(fù)旦大學(xué)中國研究院特邀評論員汪濤在采訪中指出，對于先進(jìn)的EUV光刻機(jī)這種技術(shù)產(chǎn)品，它的技術(shù)難度高、投入資源大、市場空間有限，ASML每年的EUV出貨量也只是在五六十臺(tái)左右。

對于這種設(shè)備規(guī)模較小的產(chǎn)業(yè)，我們本身是不太想涉足的，我們更傾向于發(fā)展那些規(guī)模大、市場需求量多的產(chǎn)品。

但是美國的制裁讓我們無法購買到先進(jìn)設(shè)備，我們只能被動(dòng)走上自主開發(fā)的技術(shù)路線。一旦我們有決心發(fā)展某些領(lǐng)域，那么這個(gè)領(lǐng)域當(dāng)中的其他國外企業(yè)都要做好與中國企業(yè)競爭的緊迫感。